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光刻机_雕刻机_曝光系统

光刻机国产替代股票,究竟能制造多少纳米的芯片?

京东自营就是快 再说说先锋的光驱 几十年的世界品牌 我个人用了十几年了 无噪音 读盘快 解码各种光驱的格式都是ok的 值得信赖很购买

而在精度方面,90nm肯定没问题的,同时经过两次曝光,可以得到45nm的芯片,三次曝光最高可以达到22nm左右的水平

那么能不能四次曝光,五次曝光,将精度提升上去?事实上,在实际使用中,2次曝光就已经很厉害了,像ASML等的光刻机 ,大多也只是进行2次曝光

不过也有人称,光刻机所指的精度,并不是指能制造芯片的精度,光刻机可以通过多次曝光,提升分辨率的,那么问题就来了上海微电子的90nm光刻机,最多能生产多少纳米的芯片?据资料显示,目前上海微电子的90nm的光刻机,主要用于电源管理芯片、LCD驱动芯片、WiFI芯片、射频芯片、各类数模混合电路

光刻机国产替代股票

光刻机国产替代股票,究竟能制造多少纳米的芯片?

“光刻机”被称之为传统芯片制造的工业母机,因为它必不可少,同时光刻机的好坏,精度,决定了芯片的精度、良率等等

不过大家也清楚,光刻机目前全球只有4家厂商能够生产,分别是ASML、尼康佳能、上海微电子,ASML是荷兰企业,尼康、佳能是日本企业,而上海微电子是中国企

如上图所示,这是4大厂商的光刻机精度

其中用于7nm及以下芯片制造的EUV光刻机,只有ASML能够生产

而尼康能搞定高端的7-28nm的AiF+浸润式光刻机,但佳能、上海微电子却还停留在90nm,只能生产低端的光刻机

究竟能制造多少纳米的芯片?

因为实践表示,3次曝光会导致良率大幅度下降,4、5次良率可能会低到没法想象,晶圆厂们的成本高到没法承受,不如买一台高级光刻机,成本还低一些

所以,目前国内在努力的研发28nm的光刻机,这样经过两次曝光后,可以搞定14nm,至于7nm工艺,那最好还是期待EUV光刻机,用28nm的来曝光三次,良率没法看

以前买过一个先锋上翻盖的移动外置光驱,用着非常好,读盘快,刻录快,而且上翻盖很方便,拓展上方空间,不占平面位置,打开后安放和取出光盘也都很方便,不知道现在为什么不再出这种上翻盖的外置光驱了。相信先锋的品质所以这次又买了两个希望质量一如既往。

使用了一下,外形挺简洁,放DVD很好用,刻录暂时没用。安装简单,读取速度快,希望可以使用期限可以久一些。京东得物流依旧是很不错

读盘速度:先锋存储名不虚传啊,原来用的也是先锋的,用了有10年,终于退休了 读盘声音:声音很小,几乎听不到 稳定性能:稳定性超强,刻录CD非常快,音质也超棒 轻薄程度:外置光驱吗,都一样薄厚,没有太厚的 外形外观:外观就是比原来的降了档次,原来的机器都是金属外壳,现在的是工程PVC的,更轻一些 产品包装:产品包装结实,原封装,没动过,全新

第一次自己组装电脑,选择这个骇客神条真的是百分百满意,快递包装很好,防震到位,显卡沉甸甸分量很足,做工很精良,装好一次点亮,logo.灯简约大方,体质非常不错

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