而前道工序更是重点，有至少8个工序，分别是扩散、薄膜沉积、光刻、刻蚀、离子注入、CMP抛光、金属化、测试
而这里也要用到各种设备，众多的材料，光刻机只是其中的一种设备，这些设备大多和光刻机一样，是有精度要求的，分别要求达到7nm
物有所值，买回来看包装就很喜欢，推荐此产品，欢迎大家来买他家的产品。 读盘速度：很快， 读盘声音：声音不是很大 稳定性能：刻录光盘很舒适 外形外观：很漂亮，用着合适。 轻薄程度：很薄
公司一直在用这个产品，经久耐用，一直在用，非常好用，也可以购买我们公司的产品。
先锋蓝光刻录机己收到，质量很不错。物流送货上门，非常方便，很好，安装到位，正在调试，物流也很快。昨天下午下单，今天上午就到了
刻录机一直买先锋，刻盘成功率高，废盘很少，买刻录机就买先锋。这款刻录机外观简洁大气，做工很好，使用也非常好，读取刻录都很棒，还没刻过坏盘！
稳定性能：非常稳定 读盘速度：速度快 读盘声音：无噪音 外形外观：精致美观 轻薄程度：轻薄
按照机构的数据，2022年28nm及以下的芯片占全球所有芯片的比例还高达75%+，所以我们现在的重点不是先进工艺，而是全产业的国产化率，同时提升产能，先满足国内成熟工艺的需求，先解决了这些问题，再向先进工艺前进，这样才走得稳健
还有一些材料，也需要达到7nm，比如光刻胶，7nm及以下芯片制造需要的是EUV光刻胶，但我们自给率为0
后道工序，这里主要涉及到的是封测，相对要求会低一些，但也是有工艺精度要求的
目前仅是EUV光刻机卡得最为明显，卡得最为关键，最为大家所知而已，并不意味着其它设备或材料不卡了，一旦EUV光刻机我们有了，美国在其它设备或材料上就会卡住我们的
读盘速度：很快哦 读盘声音：很小哦，静音呢 轻薄程度：一般哦 外形外观：很靓哦，总体满意
目前网络有一种声音，那就是我们必须自研出EUV光刻机，只要自研出EUV光刻机，ASML和美国就卡不住我们的脖子了，芯片就再也不用愁了
但真的自研出EUV光刻机，我们就能够制造出7nm芯片了么？在我看来，仅靠EUV光刻机，是远远不够的，还差得远呢
综合起来看，要想芯片制造水平达到7nm，需要EDA支持7nm，半导体材料也是支持7nm，半导体设备也支持7nm……而EUV光刻机只是其中的一种设备，就算我们突破了，美国或其它国家一样能够在其它设备、材料上卡住我们，因为目前国产的半导体材料、半导体设备，很多在28nm甚至更成熟的工艺，达到7nm的少之又少
自己几分钟换好了，刻了几个文件试试，很快，也没什么噪音，很不错，但愿能多用一阵子，先好评
研发出EUV光刻机
送货快，电脑城那边便宜，读盘速度刻盘速度，很快，感觉很有威力，前前后后一共买过三个，都是给单位买的，原来的都不读盘了。
很好用，不愧是老牌子，声音小，稳定，读碟和刻录都不挑碟，真值得购买！京东客服很给力，保修期内维修时间超过15天都没反应，直接联系给换新了！感谢感谢！后续有需要还会回购的