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光刻机_雕刻机_曝光系统

上海大学光刻机,中国离7nm光刻机还有多远?

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文 | 华商韬略 付磊  时代在发展,科技在进步,如果说科技是一个国家强盛的根基,那么半导体芯片制造则代表着人类科技的发展水平,而光刻机则是芯片制造中必不可少的一部分

  如今我国能够生产光刻机是第四代的ArFDE 90nm制程,然而世界上最先进的光刻机生产企业ASML已经可以做到生产EVU的7nm制程量产

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使得自身的科研进度逐步减缓,以至于中国的集成电路在科研、教育等方面出现脱节,自主研发的道路越走越窄

  取而代之的是数以万千的廉价劳动力,尽管后来尽力去跟进研发,但由于自身发展原因加上大环境影响,导致曾经辉煌一时的半导体盛景已然成为“泡沫”

  此时的中国就已经意识到了其重要性,快速向半导体产业进军

恰巧2000年的中国,正是大量爱国人士回国创业的时代,他们带着外国的先进知识经验进一步促使中国半导体的产业得到光速发展

  2007年,上海微电子宣布研制出90nm的分布式投影光刻机,但由于大多数元器件来自国外西方国家再次禁运,导致无法量产

上海大学光刻机

  1961年,美国GCA公司成功造出第一台接触式光刻机,再加上新中国建立初期,美国、英国等17个国家就成立了国际巴黎统筹委员会,主要是为了限制成员国向发展中国家出口物资和高新技术,中国也在封禁的行列之中

  虽然迫于美国的压力荷兰无法向中国出售先进制程的光刻机,但庞大的中国市场,让ASML无法拒绝其诱惑力,数据统计显示,在2022年第一季度,ASML共交付62台光刻机,其中21台DUV都成功销往中国

  【“求人”不如“求己”】  回顾中国的半导体行业,光刻机的技术发展历程可谓是曲曲折折,但这也无时无刻在警醒着中国,不能长期靠“外来力量”,究其根本还是要靠自己

上海大学光刻机,中国离7nm光刻机还有多远?

中国离7nm光刻机还有多远?

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