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文 | 华商韬略 付磊 时代在发展,科技在进步,如果说科技是一个国家强盛的根基,那么半导体芯片的制造则代表着人类科技的发展水平,而光刻机则是芯片制造中必不可少的一部分
如今,我国能够生产的光刻机是第四代的ArFDE 90nm制程,然而世界上最先进的光刻机生产企业ASML已经可以做到生产EVU的7nm制程量产
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使得自身的科研进度逐步减缓,以至于中国的集成电路在科研、教育等方面出现脱节,自主研发的道路越走越窄
取而代之的是数以万千的廉价劳动力,尽管后来尽力去跟进研发,但由于自身发展原因加上大环境影响,导致曾经辉煌一时的半导体盛景已然成为“泡沫”
恰巧2000年的中国,正是大量爱国人士回国创业的时代,他们带着外国的先进知识和经验,进一步促使中国半导体的产业得到光速发展
2007年,上海微电子宣布研制出90nm的分布式投影光刻机,但由于大多数元器件来自国外,西方国家再次禁运,导致无法量产
上海大学光刻机
1961年,美国GCA公司成功制造出第一台接触式光刻机,再加上新中国建立初期,美国、英国等17个国家就成立了国际巴黎统筹委员会,主要是为了限制成员国向发展中国家出口物资和高新技术,中国也在封禁的行列之中
虽然迫于美国的压力,荷兰无法向中国出售先进制程的光刻机,但庞大的中国市场,让ASML无法拒绝其诱惑力,数据统计显示,在2022年第一季度,ASML共交付62台光刻机,其中21台DUV都成功销往中国
【“求人”不如“求己”】 回顾中国的半导体行业,光刻机的技术发展历程可谓是曲曲折折,但这也无时无刻在警醒着中国,不能长期靠“外来力量”,究其根本还是要靠自己
中国离7nm光刻机还有多远?
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