它的验收成功,也标志着我国研制出的世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备,具有重大意义
因为,超分辨率光刻机与ASML光刻机采用了完全不同的技术路线
ASML最出名的当属EUV光刻机和DUV光刻机
EUV指的是极紫外光,它可以制造7nm以下的芯片,使用的是13.5nm波长的光源
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另一个DUV光刻机,可以制造7nm以上的芯片,其中的DUV是深紫外光的意思,使用193nm波长的光源
所以很明显,我们的超分辨率光刻机的光源波长,要比他们大很多,这是因为技术原理上的差异导致的
超分辨率光刻机的工作原理是这样的,它采用表面等离子体超分辨光刻(surface plasma),也叫表面等离子超衍射光刻,是最近十几年兴起的一种新技术
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而超分辨率光刻机在原理上突破分辨力衍射的极限,与ASML的技术路线完全不同,不依赖光源波长及镜头数值孔径的传统路线格局
当然,研制出这款超分辨率光刻机,并不意味着我们已经实现了弯道超车,否则也不至于出现华为无法获得高端芯片的情况
京东购物真方便,一直购买中 读盘速度:超快,识别光盘也不错,兼容性能超好。 外形外观:黑色,自用真好,看着舒服。。 轻薄程度:小巧轻便,放在笔记本包里也正好,方便我带出去 产品包装:京东物流快,包装也好,没有损坏,给快递师傅点赞。 读盘声音:读盘声音轻,能接受。
因为以现有的技术能力,这款光刻机只能做周期的线条和点阵,还是无法制作复杂的IC需要的图形的
同时,它还有一个显著的缺点,就是聚焦的面积非常小,属于接触式光刻,易产生缺陷,并且因为是直写式光刻,所以生产效率很低
所以,目前这款超分辨率光刻机只适用于特殊应用,例如科研攻关、技术研发等领域
京华激光引进光刻机做什么
送货快,电脑城那边便宜,读盘速度刻盘速度,很快,感觉很有威力,前前后后一共买过三个,都是给单位买的,原来的都不读盘了。
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我在之前的视频里讲过,华为的光源专利,其目的就是先对强光源进行去相干处理,以达到匀光效果,这样才能保证光刻工艺的正常进行
ASML光刻机的精度跟光源的波长、物镜的数值孔径是有关系的,波长越短越好,刻机分辨率就越高,制程工艺越先进
轻薄程度:比想象中薄,很轻便 外形外观:黑色一体,很漂亮 产品包装:包装很严实 稳定性能:刻录稳定,未失败过 读盘速度:读写速度很快,和介绍一样 发货速度很快,很满意的一次购物。满足预期