光刻机是一个很大的产业链,国产光刻机产业链的进步自然无法完全被掩饰,估计ASML也是看到了国产光刻机产业链的快速发展,了解到纯中国产的先进光刻机即将量产,所以ASML才在今年一季度加紧出货,近期美国限制ASML给中国供货14nm以下的光刻机估计也是认识到中国已很快突破到14nm光刻机了,这是中国芯片产业链值得高兴的事情
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好在这一切,如今都逐渐得到改变,经过数年的发展,国产光刻机产业链如今已逐渐成型,双工作台有华卓精科,激光光源系统有科益虹源、虹科光电等,浸润系统则有启尔机电等,还有镜头系统、曝光光学系统等都有国产厂商在做,并且这些产业链企业都位居全球前三,甚至居于全球第二
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光刻机的难度相当大,在于它自身就是一个庞大的产业链,DUV光刻机的重量达到500公斤,由1万多个元件组成;EUV光刻机更是重达180吨,由10万多个元件组成,正是因为它的复杂性,所以ASML自身无法生产所有元件,需要由德国、美国、日本等全球诸多产业链企业配合才能生产出光刻机
同在2002年台积电的技术专家林本坚发明浸润式光刻机技术,然而当时的龙头企业日本尼康和佳能不愿意采用,于是台积电才找上ASML,而当时的ASML相当落魄,寄身于飞利浦的它不受飞利浦重视,但是ASML当时的高管却认为浸润式光刻机技术可能改变市场格局,于是与台积电一拍即合
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国产先进光刻机产业链成型
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两三年后,林本坚和ASML研发的浸润式光刻机被生产出来,显示它的技术优势,浸润式光刻机随即成为市场主流,至2008年ASML超越了尼康和佳能成为全球最大的光刻机企业,此后ASML在光刻机市场的地位不断得到巩固
光刻机浸液系统测试
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