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光刻机_雕刻机_曝光系统

从“造不如买”到集中力量攻坚,长春光机所光刻机光源

从“造不如买”到集中力量攻坚

文 | 华商韬略 付磊  时代在发展,科技在进步,如果说科技是一个国家强盛的根基,那么半导体芯片制造则代表着人类科技的发展水平,而光刻机则是芯片制造中必不可少的一部分

  如今我国能够生产光刻机是第四代的ArFDE 90nm制程,然而世界上最先进的光刻机生产企业ASML已经可以做到生产EVU的7nm制程量产

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这也代表着中国由于自身原因遭遇二次“卡脖”

  历时20年之久,中国光刻机技术一直卡在193nm无法突破,中国随着发展也逐渐认识到半导产业的重要性,开始探讨突破193nm的方法

而此时的ASML却已经开始了EUV光刻机的研发工作,并且成功在2010年正式发出第一台EVU原型机

  此时的中国就已经意识到了其重要性,快速向半导体产业进军

恰巧2000年的中国,正是大量爱国人士回国创业的时代,他们带着外国的先进知识经验进一步促使中国半导体的产业得到光速发展

  2007年,上海微电子宣布研制出90nm的分布式投影光刻机,但由于大多数元器件来自国外西方国家再次禁运,导致无法量产

  伴随着晶体管的研发成功,我国相关的科研进度也飞速加快,然而“天公不作美”,尽管我国努力在向着光刻机制造产业前进,但仍然困难重重

  而光刻机,也被该委员会列为尖端科技产品,对于中国实施禁运,此时的中国也正式遭遇第一次“高科技卡脖”

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后来国家为了解决这一难题,除了抓紧整机制造,还开始扶持一系列配套产业链的发展,在不懈努力下,光刻机产业也成功在2016年实现90nm的光刻机量产

  同年,中国的清华大学团队和华卓精科成功研发了光刻机双工作台系统样机,至此中国光刻机技术水平达到除ASML外的“外国”同步水平

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