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光刻机_雕刻机_曝光系统

国产光刻机最高,2025年量产

要知道,目前公开称有5nm芯片制造能力的只有台积电三星两家

而真正第一出货的5nm芯片,是苹果2020年秋季发布会上首次公布的A14仿生芯片,这款SoC的晶体管数量达到118亿个

而第二款用上5nm芯片的则是集成153亿个晶体管的华为麒麟9000

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国产光刻机最高

2025年量产

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未来比3nm更先进工艺,将极度依赖高NA EUV光刻

作为制造芯片最先进的设备,光刻机的先进程度等直接决定了芯片的制程工艺

目前来看,荷兰的ASML几乎垄断了世界上的高端光刻机,且产量非常少,价格

自2017年ASML第一台量产的EUV光刻机正式推出以来,三星的7nm/5nm工艺,台积电的第二代7nm工艺和5nm工艺的量产都是依赖于0.55数值孔径的EUV光刻机来进行生产

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参考资料:https://www.tomshardware.com/news/tsmc-reveals-2nm-fabrication-processhttps://www.reuters.com/technology/tsmc-says-it-will-have-advanced-asml-chipmaking-tool-2024-2022-06-16/https://www.anandtech.com/show/17452/tsmc-readies-five-3nm-process-technologies-with-finflexhttps://www.elecfans.com/news/1783961.html

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国产光刻机最高,2025年量产

台积电认为这是在「后段布线制程工序」(BEOL) 中克服电阻的最佳解决方案的一种

工序上做出如此改进后,在同等能耗和复杂度下,N2的性能比N3高10%-15%

在相同速度和单位面积晶体管平均数目下,N2的能耗比N3低25%-30%

近年来,我们看到了台积电不断将工艺的先进制程推向更高点,7nm,5nm,3nm,2nm,1nm...台积电在先进制程方面可谓是一骑绝尘

2020年,5nm量产

3nm,台积电一只独秀

2nm预计在2025生产

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