两镜头光学到六镜头光学系统的差距如前文所述，德国蔡司2003年推出两镜头EUV光学系统后，3年内推出了六镜头的ADT验证机
所以，蔡司的MET光学并非欧洲的光学制造能力的上限，而长春光机所的MET曝光工具则是在采购了欧洲先进制造工具、设计工具基础之上，几乎代表了中国当时在EUV研发上的能力上限
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2005年论文：美国加州伯克利劳伦斯实验室的NA0.3的MET工具在这篇论文里，我们可以清晰的看到MET工具CAD模型，它主要包括两个部分：1，从上部的同步辐射光源系统（From synchorotron）经过一个扫描单元传递至曝光装置；它相当于EUV光刻机的EUV光源系统；2，MET曝光系统主要包括从上到下的4个部分：光罩台、投影光学系统、晶圆台、照明台
在过去三年的六镜头EUV光刻光学系统项目的研究里，王丽萍教授和她的团队已经进展到哪一个阶段了呢？在面对西方技术封锁下，我们能够获得项目推进所必须的软硬件条件吗？下次见！两镜头极紫外曝光工具MET-5参考资料2017年中科院02专项验收通讯稿：https://www.cas.cn/cm/201707/t20170710_4607967.shtml2017年长春光机所02专项验收通讯稿：http://www.ciomp.cas.cn/xwdt/mtcg/201707/t20170711_4830235.html2005年加州劳伦斯伯克利实验室MET工具论文：https://digital.library.unt.edu/ark:/67531/metadc885229/m2/1/high_res_d/901242.pdf纽约州立大学理工学院ADT工具主页：https://www.sunypoly.edu/research/wafer-fabrication/wafer-processing-rd/lithography-patterning-tools/asml-300mm-adt-euv.html
家里的电脑使用时间有点长了，光驱是易损品，时间长该换了，选了很久，买了这款先锋光驱，毕竟是大品牌，可信赖！总之5星好评！ 读盘速度：因为买的是刻录光驱，肯定主要看刻录速度，感觉还不错，CDRW24倍速，DVDRW是8倍速滴? 稳定性能：毕竟是大品牌，性能肯定比较稳。 轻薄程度：很好，适合台式机。
光刻机二次光刻对齐原理
第一次买刻录机，担心尺寸和电脑不符，买回来可以装，很高兴，质量很好，京东的客服人员也非常好，遇到问题还亲自打电话过来帮我解答，让我没有后顾之忧，有一些不懂还要继续学习，性价比很不错，是正品，包装也很结实。 稳定性能：好 产品包装：好 外形外观：好
当然，作为实验性工具，MET也是在不断发展的，第一代MET工具NA0.3的数值孔径，对应于ASML的第一代NA0.33 EUV光刻机；第二代MET工具具有NA0.5的数值孔径，对应于ASML的第二代NA0.55EUV光刻机
ASML NXE:3300 极紫外 EUV 光刻机，具有数值孔径 NA0.33 的极紫外光学曝光系统王丽萍教授的极紫外光刻研究王丽萍教授的主页王丽萍教授目前是中科院大学的博士生导师，在她的主页上，我们可以看到她参与了02专项的极紫外光刻研究
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