光刻机的内部结构精密复杂就用荷兰阿斯麦尔公司制造的EUV光刻机来说,这个光刻机中有10万多个零件,其中90%的关键设备都来自其他国家,该公司只负责整机设计和各模块集成
可以看出,想制造光刻机仅有核心技术是不够的,因为许多零件都要依靠进口,在这种情况下,想独立制造,肯定是极难做到的
读盘速度:一如既往的快 读盘声音:一如既往的的轻 轻薄程度:比老款略缩短1CM 外形外观:中规中矩的四方 稳定性能:读写很稳定 产品包装:比之老款,包装略简单,且无NERO光盘附赠。
可能等到光刻机的制造难度再降低一些,未掌握核心技术的国家才会选择继续研究
值得一提的是,由于各国之间存在“政治博弈”,所以我国的芯片制造领域一直面对着很大的难题
正在研发国产光刻机我国光刻机研发面临的挑战首先就是我国目前依旧缺乏高性能光刻机制造技术,从光刻机的发展历程就能看出,它对于工艺节点的要求越来越高
快递超级给力,次日达。本次活动也可以呀。先锋的刻录机,多年的老牌子了,DVD刻录机还用着这个的。目前支持4K的光驱极其稀少了
光刻机为啥这么难造?比原子弹还稀有
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ASML的EUV光刻机简单来说,光刻机算得上是凝聚了各国人才心血的产物,其原材料来自五湖四海
而荷兰和日本虽然已经在这个领域独占鳌头,但是也无法实现“整机国产化”生产,依旧需要全球上下游产业链的供给和支持
除此之外,光刻机的研发经费过高也是一个关键的问题
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asml光刻机指标视场
全球光刻机市场格局示意图在这之中,荷兰的阿斯麦尔公司主导高端市场,日本的尼康和佳能则占据了低端市场的大量份额
那么,这只让“两家独大”的光刻机,到底有多难造?光刻机为何如此难造?其实对于光刻机为什么这么难造的问题,我们可以用第五代EUV光刻机为例子,来找找原因
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投影式光刻机与照相机的对比示意图至于第四代步进式扫描投影光刻机,就实现了在光刻过程当中掩模和硅片同步移动,将芯片的“最小工艺”节点再次拔高
第五代EUV光刻机,就是现在各国追求的尖端光刻机
因为这个光刻机,已经将最小工艺节点推向了一个“极限”