装上去试了一下。运转声音很静，读碟很快，比以前那个好多了。好用，以前一直都是喜欢用先锋刻录机，非常好用，京东购买，还便宜，性价比高。
而基于0.55NA数值孔径的光刻机，光刻分辨率将允许芯片缩小1.7倍、同时密度增加2.9倍，其处理晶圆的能力是每小时处理220片12寸晶圆左右，真正用于制造3nm以下的芯片
至于买家，当然只有台积电、三星、英特尔三家才有资格购买，其它的晶圆厂，能够买到0.33NA的EUV光刻机，就已经非常不错了，不要想这种0.55NA的
非常小巧的产品，出乎意料特别的轻，有一种不能置信的感觉。具体速度还是可以的，质量自然刚刚的，过去一直使用这个品牌，今次也不例外。声音很安静，基本没有振动，当然我有适合的防震设备。很适合外带的小家伙，移动方便。
日本尼康光刻机工厂日本地址
一次很好的购物体验，服务周到，物流快速，配送也很周到，态度也很好，好评！很好看，制作工艺很精美，材质也很好！给个赞！很满意的一次购物，商家服务好，发货神速，物流也很给力，宝贝收到后非常喜欢，买得放心，用得安心
众所周知，制造7nm及以下工艺的芯片，需要用到EUV光刻机，而全球仅有ASML能够生产
ASML在2015年，就推出了第一代EUV光刻机WINSCAN NXE:3400B，之后在2019年推出了NXE:3400C，2021年推出了NXE:3600D
质量很好，很好用，值得购买，会继续光顾，物流很给力。使用非常方便，刻录非常容易，效果非常不错，很好用
一小时处理220片12寸的晶圆，其产能有多大？如果是苹果A16这样的芯片，一块晶圆可以切割600块左右，理论上一台这样的光刻机，一年可以就光刻10亿颗以上……至于价格方面，ASML表示，其0.55NA的下一代EUV光刻机单价将达到3亿多美元（约合20亿元人民币）
而要生产2nm的芯片，数值孔径要变为0.55NA，也就是解析度（精度）为8nm，这样可以更更快更好地曝光更复杂的集成电路图案，同时单次构图间距低于30nm
这种新的EUV光刻机叫做型号，就叫做EXE:5200，目前ASML已经有了规划，预计在2024年底，或者2025年交付
ASML最新光刻机曝光:20亿一台
稳定性能：非常稳定 读盘速度：速度快 读盘声音：无噪音 外形外观：精致美观 轻薄程度：轻薄
很好的刻录光驱，可以8倍速刻录光盘，先锋的光驱产品一直是行业领先的存在，上大学的时候就用的先锋的刻录光驱，现在已经毕业多年，这次公司要买个可以刻录的光驱，第一反应选择了先锋的光驱，很不错，京东的小哥送货上门，好好的服务。
轻薄程度：比想象中薄，很轻便 外形外观：黑色一体，很漂亮 产品包装：包装很严实 稳定性能：刻录稳定，未失败过 读盘速度：读写速度很快，和介绍一样 发货速度很快，很满意的一次购物。满足预期
不过据称，NXE:3600D型号的EUV光刻机，支持的工艺可能仅到3nm，如果要制造2nm的芯片，光刻精度还要提升，需要新一代的High-NA极紫外光刻机才行
而光刻精度怎么提升，就是数值孔径的提升了， 前几代光刻机，比如3400B/C、3600D的数值孔径都是0.33NA的，解析度（精度）为13nm，单次构图间距为32nm到30nm