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光刻机_雕刻机_曝光系统

甘棕松光刻机,我国造出新技术路线光刻机

我国造出新技术路线光刻机

先锋刻录机,15年了 始终在用这个牌子 真心好用。还不错!14年的老电脑!就机箱和光驱没有换过啦!这次还换先锋的光驱!物美价廉

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我在之前的视频里讲过,华为光源专利,其目的就是先对强光源进行去相干处理,以达到匀光效果,这样才能保证光刻工艺的正常进行

ASML光刻机的精度跟光源的波长物镜的数值孔径是有关系的,波长越短越好,刻机分辨率就越高,制程工艺越先进

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我们国家在4年前,曾经研制出一种特别的光刻机,但是很少有人知道,它的名字叫超分辨率光刻机,这台光刻机可是哟经365nm波长实现22nm工艺制程,通过多重曝光等手段,还可以实现10nm以下的工艺制程

在此基础上,项目组还结合超分辨光刻装备项目开发的高深宽比刻蚀、多重图形等配套工艺,未来能够实现10纳米以下特征尺寸图形的加工

而超分辨率光刻机在原理突破分辨力衍射极限,与ASML的技术路线完全不同,不依赖光源波长及镜头数值孔径的传统路线格局

当然,研制出这款超分辨率光刻机,并不意味着我们已经实现了弯道超车,否则也不至于出现华为无法获得高端芯片的情况

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具体是将入射光照射在透镜表面的小探针上,然后探针表面的电子就会有序的震荡,从而激发产生波长非常短的等离子体,然后在光刻胶上刻出非常小的图形

而ASML的光刻机,是将激光束经过一些列反射整形后,过滤掉衍射,然后投射经过光刻模板,再投射到硅片上

先锋的刻录机非常好,老品牌了,以前就经常使用,质量好,价格实惠,非常满意,快递非常快!

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它的验收成功,也标志着我国研制出的世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备,具有重大意义

因为,超分辨率光刻机与ASML光刻机采用了完全不同的技术路线

ASML最出名的当属EUV光刻机和DUV光刻机

EUV指的是极紫外光,它可以制造7nm以下的芯片,使用的是13.5nm波长的光源

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