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光刻机_雕刻机_曝光系统

荷兰对中国禁售光刻机,中国光刻机困局之2022(二):六镜头极紫外光学系统的起源

很好很满意,读碟流畅,之前买的华硕挺挑碟的,正版碟都读不出,这款棒棒的,刻录倒不常用,用移动硬盘多,暂时没有测试

好使,稳定性能强大,即插即用,很不错的一款产品,给客户买的,收到包装完好,安装简单,读取速度快,很赞

还行,挺不错的,之前公司的让我弄坏了,自己买了一个赔给公司。测试了所有功能,一切正常。还有京东快递小哥一如既往很快,态度也很好,好评!

因此,在大约十年时间里,长春光机所获得了突破性的进展 -- 两镜头MET工具设计制造能力,使得我们有机会进行下一阶段的六镜头EUV光学系统的设计和开发

而这也是篇首我们看到的王丽萍教授参与的六镜头投影系统设计和验证工作的基本背景

前一个先锋刻录机用了12年装系统读盘报错了。又买个先锋。非常好用。先锋蓝光刻录机己收到,快递物流快,送货上门,很方便

读盘速度:一如既往的快 读盘声音:一如既往的的轻 轻薄程度:比老款略缩短1CM 外形外观:中规中矩的四方 稳定性能:读写很稳定 产品包装:比之老款,包装略简单,且无NERO光盘附赠。

荷兰对中国禁售光刻机,中国光刻机困局之2022(二):六镜头极紫外光学系统的起源

一直用多大先锋的外置刻录机,用于投标刻录光盘的。实事求是!真是皮实耐用!!!第一台用了7年,这才换第二台,绝对的物超所值!良心评价,我个人认可了这个牌子,推荐大家 稳定性能:用了7年才出现一点点问题

ASML NXE:3300 极紫外 EUV 光刻机,具有数值孔径 NA0.33 的极紫外光学光系统王丽萍教授的极紫外光刻研究王丽萍教授的主页王丽萍教授目前是中科院大学博士生导师,在她的主页上,我们可以看到她参与了02专项的极紫外光刻研究

荷兰对中国禁售光刻机

当然,作为实验性工具,MET也是在不断发展的,第一代MET工具NA0.3的数值孔径,对应于ASML的第一代NA0.33 EUV光刻机;第二代MET工具具有NA0.5的数值孔径,对应于ASML的第二代NA0.55EUV光刻机

中国光刻机困局之2022(二):六镜头极紫外光学系统的起源

先锋光驱,很多年的老品牌,用过一个先锋外置光驱,这次装机还是在京东选购一台内置先锋DVD刻录机,已装上,读盘很好,刻录功能还末试。

在过去三年的六镜头EUV光刻光学系统项目的研究里,王丽萍教授和她的团队已经进展到哪一个阶段了呢?在面对西方技术封锁下,我们能够获得项目推进所必须的软硬件条件吗?下次见!两镜头极紫外曝光工具MET-5参考资料2017年中科院02专项验收通讯稿:https://www.cas.cn/cm/201707/t20170710_4607967.shtml2017年长春光机所02专项验收通讯稿:http://www.ciomp.cas.cn/xwdt/mtcg/201707/t20170711_4830235.html2005年加州劳伦斯伯克利实验室MET工具论文:https://digital.library.unt.edu/ark:/67531/metadc885229/m2/1/high_res_d/901242.pdf纽约州立大学理工学院ADT工具主页:https://www.sunypoly.edu/research/wafer-fabrication/wafer-processing-rd/lithography-patterning-tools/asml-300mm-adt-euv.html

读盘速度:刚开使用,读盘写盘都还是很不错的,希望一直质量不错,耐用一些就很棒了

2005年美国加州伯克利劳伦斯实验室的NA0.3的MET工具这篇论文给出了一份测试结果,展示了30nm和25nm的等线宽线距(L/S)的曝光能力,可以看到30纳米等L/S曝光结构非常清晰

而曝光28.8纳米的独立线条,仍可以获得非常高精度的曝光图案

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