回顾中国光刻机过去60年间的发展，前20年，在科研人员夜以继日的攻关下，中美光刻机差距被缩短到了7年，中间十几年，因为种种原因，国内外的光刻机差距越拉越大，直到2000年后，面对断供的威胁，以及与国外的恐怖差距，国产光刻机再次开始奋力追赶
为了摆脱困境，1956年国家成立科学规划小组，集中600多位科学家，开始编制《十二年科学技术发展规划》
这是新中国成立以来第一个科技规划，提出了57项重大科学技术任务、616个中心问题，规划初步完成时，资料多达600万字
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国产光刻机的艰难往事
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”2逆境改革开放之后，全国兴起了引进外国设备的热潮，半导体产业开始受到猛烈的外部冲击
尽管742厂的技术引进大获成功，但从整体来看，芯片产业出现了重复引进和过于分散的问题
在扩大对外开放的背景下，“造不如买”的思潮迅速蔓延全国
就在形势一片向好时，美国开始了对中国芯片产业的围堵，十几年前的担忧最终成为了现实
如今中国的芯片产业链与国外虽然仍有差距，但与之前不同的是，国家政策持续发力，资金支持到位，工程师队伍不断壮大，产业链的各个环节也已今非昔比
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中国光刻机订单
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2016 年，上海微电子90nm光刻机实现量产，华卓精科成功研制出两套双工作台样机，成为继阿斯麦之后，世界上第二家掌握这项技术的企业
至此，国产光刻机虽然还没有完全走出困境，但是经过20多年的艰难追赶，中国的光刻机乃至整个芯片产业，在吸取了之前的发展教训后，总算逐渐开花结果
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