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这种方式比传统光刻分辨率更高,加工速度也不受影响,但它对材料控制的要求特别高,目前还没有成熟的解决方案,还处在实验室阶段
而对这一技术研究较深的是比利时微电子中心、麻省理工学院,他们都建立了自组装产线,进行相关研究,三星在DSA上申请的专利最多,也非常重视这一 技术
稳定性能:很好 读盘速度:很好 外形外观:很好 轻薄程度:很好 读盘声音:很好 产品包装:很好
光刻机气浮导轨
给小孩读他们学习的光盘用的,不错。太给力了。真的挺好的,品质一流,很满意的一次购物。物流一如既往地快,包装很好,一点也没有破损。这个宝贝真是不错,挺喜欢的,用起来挺好的。会再来的,这是一次很开心的购物,体验十分不错。价格也十分优惠,价优物美,很喜欢。一直很信赖京东,相当满意的购物体验。质量非常好,与卖家描述的完全一致,非常满意,真的很喜欢,完全超出期望值,发货速度非常快,包装非常仔细、严实,物流公司服务态度很好,运送速度很快,很满意的一次购物。感谢京东为我们提供的良好购物体验!
第二大方案是电子束光刻机(EBL),用高能电子束来替代极紫外线,电子对应的波长只有0.04纳米,加工精度就比EUV又高了不少
目前在这一块比较突出的是美国,前不久前段时间美国公司Zyvex,就搞出了一台电子束光刻机(EBL),并制造了768皮米(0.768nm)
多次购买,用的都是这品牌,质量没的说,全五星,刻录很快,快递很快!电脑已经发走了,也没来得及试,这个价格很便宜,包装也很好,沉甸甸的,总体很棒
所以其它厂商,只能另想办法,换道超车,用另外的技术来替代EUV光刻机
目前已经有三大方案,都被认为是可以替代EUV光刻机方案的,并且被大家重视,很多企业更是投入巨资研发,以期有所突破,进而替代EUV光刻机
第一大方案是NIL纳米压印,其原理类似于打印机一样,先在模具上刻上纳米电路的图案,再把这个图压在硅片的感光材料上,同时用紫外线照射,就能完成转印,这种方式可以达到至少2nm的精度
不过可惜的是,当前我们似乎在这三种方案上都不太突出,当然也有可能是保持低调,不愿意秀出实力来,但不得不说,研究EUV光刻机,或者研究能替代EUV光刻机的技术,对于中国芯而言,是势在必行,再难也要上的,否则中国芯就会一直被卡脖子,你觉得呢?
三种EUV光刻机替代方案
而EUV光刻机,则用于7nm及以下的芯片制造,且只有ASML一家企业能够生产
考虑到ASML是集全球之力造EUV光刻机,且与上下游形成了利益同盟,所以其它厂商想在EUV光刻机上超过ASML,基本上不可能的
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买了三个光驱,反馈都很不错,声音小,噪声小,刻盘的速度很快,跟之前的光驱比的确不是一个档次,之前光驱识别光盘都很困难,这个很快就能识别出来,真的是大赞。京东速度还是一如既往地快,让人赞不绝口,以后还是继续支持京东?