同在2002年台积电的技术专家林本坚发明浸润式光刻机技术，然而当时的龙头企业日本尼康和佳能不愿意采用，于是台积电才找上ASML，而当时的ASML相当落魄，寄身于飞利浦的它不受飞利浦重视，但是ASML当时的高管却认为浸润式光刻机技术可能改变市场格局，于是与台积电一拍即合
国产光刻机即将交付
光刻机的难度相当大，在于它自身就是一个庞大的产业链，DUV光刻机的重量达到500公斤，由1万多个元件组成；EUV光刻机更是重达180吨，由10万多个元件组成，正是因为它的复杂性，所以ASML自身无法生产所有元件，需要由德国、美国、日本等全球诸多产业链企业配合才能生产出光刻机
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日前媒体报道指国产先进光刻机的产业链正逐渐完善，纯国产光刻机即将出现，难怪ASML之前加紧向中国出售光刻机了，它非常担忧中国光刻机将成为它的强劲对手
正是由于国产产业链在光刻机方面的进展，让中国正成为全球最具潜力的光刻机生产国，这方面是ASML所在的荷兰和尼康所在的日本都无法达到的，产业链已成为中国光刻机的核心竞争优势
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两三年后，林本坚和ASML研发的浸润式光刻机被生产出来，显示它的技术优势，浸润式光刻机随即成为市场主流，至2008年ASML超越了尼康和佳能成为全球最大的光刻机企业，此后ASML在光刻机市场的地位不断得到巩固
直到近几年，国产光刻机得到重视，上海微电子和国产光刻机产业链也确实争气，短短数年时间就连续打破空白，量产的封测光刻机已得到业界的认可，其中早前富士康青岛封测工厂就一下子采购了上海微电子的46台封测光刻机，为上海微电子和国产光刻机提供巨额收入，这将加速它们研发制造芯片的光刻机，而如今产业链陆续突破，业界专家表示将不仅一次过攻克28nm光刻机，还将在明年底之前量产14nm国产光刻机
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