目前全球能够制造光刻机的厂商，真不多，可能也就4家，分别是ASML、日本佳能、日本尼康，还有上海微电子
那么这4家各自在市场表现如何？近日，有机构统计了2021年全球前道光刻机的销售情况，一共是478台（注：数据真假未知，但以机构的知名数，估计不会有假）
如上图所示，去年全球一共售出478台前道光刻机，其中ASML拿下309台，占比为65%，日本厂商拿下169台，占比为35%
而中国厂商的份额为0
再看看5种分类，可以看到EUV光刻机是ASML独占100%，而DUV中，精度更高的ArFi、ArF Dry均是ASML说了算，占比分别96%、88%
日本厂商则在低端的KrF、UV(i-line）上有一定优势，特别是最低端的UV光刻机上，占了大头
可见，整个前道光刻机市场，还是ASML说了算，日本厂商，拿走的是ASML看不上的低端市场，而国产连低端市场都抢不到
为何国产光刻机，出货量为0？首先是上海微电子目前最先进的仅为90nm，也就是KrF、UV阶段，处于低端，这里竞争大，有4家厂商在竞争，ASML、佳能、尼康都有
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7nm光刻机其实不贵
但大家不清楚的是，光刻机也分前道光刻机，后道光刻机两种
前道光刻机，主要是指将芯片电路图，光刻到硅晶圆上的光刻机，也就是芯片制造的前道工序号需要的光刻机，也称之为前道光刻机，其中又分EUV光刻机、DUV光刻机，UV（i-line）光刻机
国产为0
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而后道光刻机，同是用于芯片制造的后道工序，比如芯片封装等，另外还有光刻胶制造也需要后道光刻机等
相对而言，前道光刻机更难，更为重要
同时对精度要求也越高，所以前道光刻机又分EUV、DUV、UV光刻机
而DUV光刻机按照精度，又分为ArFi光刻机，用于45-7nm；ArF Dry用于65nm，KrF用于180nm等等