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光刻机_雕刻机_曝光系统

光刻机重大专项,中美芯片技术的新较量

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目前的硅基芯片性能提升主要依赖芯片制造工艺的提升,然而业界都清楚硅基芯片的极限是1nm,而目前最先进的芯片制造工艺是3nm却已面临巨大困难三星的3nm工艺技术更先进但是良率太低,台积电的3nm工艺基于成熟的FinFET技术却导致性能提升有限成本过高被苹果舍弃

光刻机重大专项,中美芯片技术的新较量

在硅基芯片逐渐接近极限的时候,量子芯片技术已开始得到加速发展,美国的IBM、谷歌都已宣布量子技术得到突破,IBM更已推出量子芯片,IBM已推出两代量子芯片Eagle chip和Osprey chip,预计明年就会推出采用量子芯片的超级计算机,量子芯片商用化的时代加速到来

3nm工艺尚且面临诸多困难,更别谈难度更大的2nm工艺了,2nm工艺能否如期在2025年量产存在很大的不确定性,再有就是2nm工艺需要采用ASML第二代EUV光刻机,而第二代EUV光刻机将比目前的EUV光刻机贵两倍多,工艺生产耗电成本也是倍速上涨,性能提升和成本未必达到经济成本

中国的量子技术专家表示量子计算机将不仅限于超级计算机,还将面对商用市场推出通用计算机,到那时候中国科技行业将彻底终结硅基芯片统治芯片行业的历史,中国的芯片技术也将达到世界领先水平,并形成我们自己的技术体系

中美芯片技术的新较量

光刻机重大专

今年1月安徽的本源量子宣布与晶合科技成立量子芯片联合实验室,建设全国第一条量子芯片生产线,同时本源量子还发布了量子芯片EDA软件本源坤元,实现量子芯片的自动化设计,为推进量子芯片的生产打下基础

近日安徽量子计算工程研究中心发出了NDPT-100无损探针电学测量平台,简称“无损探针台”,这被誉为量子芯片的光刻机,可以提高量子芯片的生产良率,可以说中国的量子芯片产业链正式成型

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