不过可惜的是，当前我们似乎在这三种方案上都不太突出，当然也有可能是保持低调，不愿意秀出实力来，但不得不说，研究EUV光刻机，或者研究能替代EUV光刻机的技术，对于中国芯而言，是势在必行，再难也要上的，否则中国芯就会一直被卡脖子，你觉得呢？
荷兰光刻机起火中国订单
读盘速度：读盘速度很快，加持USB3.0。 读盘声音：运行比较安静，比其他声音小点。光盘质量也有影响。 稳定性能：稳定性强，底部防滑。 轻薄程度：轻薄小巧。能放电脑包。 强制开机按钮很惊艳，强制开盖也不用到处找针了。手轻轻一拨就开了，方便极了。
佳能一直非常重视NIL纳米压印技术，甚至在2021年就造出了机器，被铠侠用于NAND闪存制造中，只不过目前精度还不太够，不能替代EUV光刻机
但在NIL技术上，佳能的专利最多，技术最成熟、最先进，很明显，佳能就押注这个技术了
这种方式比传统光刻分辨率更高，加工速度也不受影响，但它对材料控制的要求特别高，目前还没有成熟的解决方案，还处在实验室阶段
而对这一技术研究较深的是比利时微电子中心、麻省理工学院，他们都建立了自组装产线，进行相关研究，三星在DSA上申请的专利最多，也非常重视这一 技术
读盘速度：一如既往的快 读盘声音：一如既往的的轻 轻薄程度：比老款略缩短1CM 外形外观：中规中矩的四方 稳定性能：读写很稳定 产品包装：比之老款，包装略简单，且无NERO光盘附赠。
读碟挑剔，咨询客服，无回复。拿到手沉甸甸的，包装很好，装机试了一下，读盘很快，稳定，希望用的久一些
读盘速度：十分快 读盘声音：小 稳定性能：十分不错 轻薄程度：刚刚好 外形外观：美观 产品包装：很好
所以其它厂商，只能另想办法，换道超车，用另外的技术来替代EUV光刻机
目前已经有三大方案，都被认为是可以替代EUV光刻机方案的，并且被大家重视，很多企业更是投入巨资研发，以期有所突破，进而替代EUV光刻机
第一大方案是NIL纳米压印，其原理类似于打印机一样，先在模具上刻上纳米电路的图案，再把这个图压在硅片的感光材料上，同时用紫外线照射，就能完成转印，这种方式可以达到至少2nm的精度
很遗憾
上次买的华硕，这次买先锋的，同样品质和价格喜人，读盘能力强，声音小，读取快速，刻录时间和刻盘质量稳定，一次买了2个，单位上用的，同事用了都说可以，六一八期间促销还有卷送，总共买东西便宜了一二百，非常满意的购物体验。
很好的刻录机，一直用这个牌子，便宜实惠，上一个用了5年，里面的皮带不行了，就又买个一个！
而EUV光刻机，则用于7nm及以下的芯片制造，且只有ASML一家企业能够生产
考虑到ASML是集全球之力造EUV光刻机，且与上下游形成了利益同盟，所以其它厂商想在EUV光刻机上超过ASML，基本上不可能的
先锋蓝光刻录机己收到，质量很不错。物流送货上门，非常方便，很好，安装到位，正在调试，物流也很快。昨天下午下单，今天上午就到了