由于对芯片性能的不断追求，使得芯片的制造工艺在持续的发展，但是当进入7纳米时，整个产业出现了分水岭，很多芯片代工厂选择了放弃，在光刻机上也是如此，7纳米等更先进工艺需要用到EUV技术，只有ASML选择了坚持，尼康、佳能也选择了放弃
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但是谁也没有想到，7纳米等更先进工艺不仅设计成本高昂，制造成本更是成倍的提升乃至数倍的提升，光刻机的价格也是高出天际，所以产业界已经开始寻找替代方案，例如芯粒技术、先进封装等都已经开始被应用，作为光刻机巨头的ASML自然是嗅到了这样的气味，产业又开始变向了
而近日，ASML方面又做出了新的计划，其表示将在2025年实现600台DUV的生产能力，但EUV光刻机只有90台，其高NA EUV光刻机，则是到2028年实现20台的产能，可以看到在产能上的对比强烈，DUV的产能是EUV的近七倍，是高NA EUV光刻机产能的至少30倍
事实上，现在ASML已经看到了其EUV光刻机在未来的销售会不乐观，先看台积电，首先是台积电已经取消了一座7纳米工厂，其现有7纳米生产线的利用率已经不到50%，也就是说，大量的EUV光刻机已经处于关机状态，其3纳米生产线至今闲置，而且还削减了大量产能，近日台积电更是表示没有计划在老美建设3纳米工厂的计划
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所以面对这样的情况，老美恐怕始料未及，但可能情况更加严重，因为不仅是格芯，老美的芯片超级巨头英特尔已经进行裁员了，动辄都是上千人的规模，与之正好相反的，是ASML大举在我们国内招聘，计划招聘的规模已经达到1500人，目的就是服务好中企客户，因为光刻机不是出售了没事了，还需要有驻场人员进行售后服务
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