滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

其实，我国光刻机的起步并不晚，早在20世纪60年代，中科院就开始研究，1965年就研制出第一台接触式国产光刻机，1985年研发成功了第一台分布式投影光刻机

此时，ASML才成立一年之久，我国的光刻机水平跟国际先进水平的差距才不到7年

先锋的刻录机用过两台了，第一款是DVD刻录机用了好多年，后来升级成蓝光刻录机已经用了6年，刻录了快1000张蓝光盘还是很稳定，现在再买一台备用。非常可靠耐用的品牌。

据悉，建设包括 FAB 生产厂房、OS 生产调度及研发大楼、CB 综合楼、WH 仓库、CUB 动力站等大型群体工程

项目完成后，可实现年产能约 36 万片 12 英寸功率器件晶圆片，主要生产 MOSFET、GaN FET、SiC FET 等功率器件产品

大品牌的外置光驱，一直都用这个牌子。从前的内置光驱也是一样。主要是性能稳定，耐用。刻录光盘很少报废，速度很快。现在新电脑都很少配置光驱，买他就很方便。

一直用多大先锋的外置刻录机，用于投标刻录光盘的。实事求是！真是皮实耐用！！！第一台用了7年，这才换第二台，绝对的物超所值！良心评价，我个人认可了这个牌子，推荐大家 稳定性能：用了7年才出现一点点问题

这种外置光驱非常好用，买来刻录cd用的，用完可以带走。非常好的一款刻录机，大品牌，值得信赖，而且这个也比较专业吧！

指望荷兰官方和 ASML 作出更大让步的可能性不大

中国市场贡献了 ASML 15% 左右的营收，如果禁令范围继续扩大至低阶一些的深紫外（DUV）光刻机，客户们会转而投向尼康、佳能等日系厂商

3纳米代工市场规模2026年将达到242亿美元，比今年（12亿美元）增加20倍以上

目前，三星电子是唯一一家宣布成功量产3纳米的企业

三星电子、台积电、英特尔等主要半导体企业开始引进EUV设备，随着工程技术的发展，预计3纳米将成为核心先进工艺

ASML正在准备向客户交付首台High-NA EUV光刻机，大概会在明年某个时间点完成

据悉，High-NA EUV光刻机会比现有的EUV光刻机更为耗电，从1.5兆瓦增加到2兆瓦

主要原因是因为光源，High-NA使用了相同的光源需要额外0.5兆瓦，ASML还使用水冷铜线为其供电

上半年美国模拟芯片、射频芯片等企业纷纷表示库存高企，为了清理库存主动降价九成求售；到了下半年两大手机芯片企业联发科、高通、NVIDIA、AMD都陆续砍单，显示出芯片过剩的情况正向更多行业蔓延

随着这些芯片企业砍单，全球最大芯片代工厂台积电也开始受到影响，台积电开始关闭部分EUV光刻机并让部分员工休无薪假期，这意味着芯片供给过剩的情况开始影响到整条芯片产业链

用起来银好，读碟能力超级强大，价值也很实惠，值得购买的一款光。读盘速度：快读盘声音：小稳定性能：好产品包装：包装严实非常不错

而近日，ASML方面又做出了新的计划，其表示将在2025年实现600台DUV的生产能力，但EUV光刻机只有90台，其高NA EUV光刻机，则是到2028年实现20台的产能，可以看到在产能上的对比强烈，DUV的产能是EUV的近七倍，是高NA EUV光刻机产能的至少30倍

京东快递，一如既往的质量保障，送货速度快，快递员态度好，继续支持。已试过，静音速度快，这是我第一个外置光刻一体光驱，真心不错，值得推荐

美国为ASML光刻机提供关键的光源 然而，荷兰ASML公司已经在一定程度上依赖中国的市场了

据该公司财报显示，中国大陆是其全球第三大市场，营收总额达27亿欧元，约占其2021年全球营业额的1/7

由于从4年前起，美国就一直要求荷兰禁止ASML向中国出售高端光刻机，导致中国早已订货的EUV一直被拒绝交货，这在一定程度上打乱了中国生产7纳米芯片的计划

要造反?ASML对华供应DUV光刻机显现曙光 欧盟荷兰反对频繁施压中国用口罩跟荷兰换光刻机

使用了一下，外形挺简洁，放DVD很好用，刻录暂时没用。安装简单，读取速度快，希望可以使用期限可以久一些。京东得物流依旧是很不错

中国激光不出光刻机

用了多年先锋刻录机，相信它的质量，到手发现很小巧玲珑，方便携带，试刻了一张，很好，和win7兼容的很好，自动安装了驱动，系统直接就可以刻录，做工也不错！

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先锋6X蓝光刻录机外观很美观，做工精细超薄的外表很喜欢，Type-c接口比较通用的接口， 吸入式/支持BD读写/兼容Windows/MAC双系统，支持千年光盘/BDR-XS07CS，正在使用中

正是由于EUV光刻机的高度复杂性，至今为止仅有ASML能生产出EUV光刻机，其他国家并无法生产出EUV光刻机，而且即使是诸多供应链企业提供了高度精密的元件，ASML同样需要投入大量技术人员研发相关的技术并对这些元件进行整合才能组装出一台光刻机

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很好的刻录机，一直用这个牌子，便宜实惠，上一个用了5年，里面的皮带不行了，就又买个一个！

日本光刻机生产企业

未来比 3nm 更先进的工艺，将极度依赖高 NA EUV 光刻机