近几年来中国极力发展芯片制造产业链,经过近十年来的努力,中国在芯片制造的八大环节都已达到14nm,刻蚀机更已达到5nm,而芯片封测技术已达到3nm,仅有光刻机还停留在28nm以上
光刻机也成为中国芯片制造最后需要打通的环节,而随着更多企业的加入,特别是近期一家重量级企业成功研发了光线折射技术,对于中国的光刻机产业来说无疑是巨大的突破
关于光刻机
国产的光刻机已形成了一条完整的产业链条,成为全球唯一拥有光刻机全产业链的经济体,双工作台、光学系统、物镜系统、光源系统方面都已有相关企业研发成功,如今国内企业在光线折射技术方面的突破,无疑将补上最后的短板,期待国产光刻机的量产