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阿斯麦光刻机镜头德国蔡司

中国作为目前世界上的第二大经济体，在很多高精尖领域都引领着技术的发展，但有一样象征着工业强国的科技产品，我国始终无法完成自产，这就是EUV光刻机

   光刻机的含金量目前全世界能够制造EUV光刻机的国家只有两个，荷兰和日本

很好的刻录机，刻录盘时声音很低，刻盘成功率高。质量不错，安装简单，稳定性也很好，读碟速度快，值得推荐

简单来说，复旦大学成功实现了CFET晶体管，该晶体管在当前的应用特点，是可以实现集成度的翻倍，这与提升芯片制造工艺的结果是一样的，因为提升工艺的目的就是为了提升晶体管的集成度

因此我们就可以看到，将芯粒、CFET和先进封装结合起来，就可以实现异质异构芯片，异质异构芯片与采用依赖先进工艺的同质同构的芯片相比，性能上并不占有劣势，但是成本上却占有极大优势

除了设备过于昂贵之外，EUV光刻机的耗电量也是剧增，据悉台积电的耗电量占中国台湾省衡耗电量比例达到8%，如果引入第二代EUV光刻机，预计耗电量将进一步上涨，不知中国台湾能否撑得住，昂贵的电费让台积电已逐渐难以承受，这都导致采用光刻机的芯片制造工艺成本昂贵

早前美国一家精密制造企业Zyvex Labs就宣布研发成功光刻机系统，它舍弃了ASML等光刻机企业所采用的紫外光，而采用了电子束（EBA）刻印电路，精度远超采用极紫外线的EUV光刻机，工艺制程可以达到0.768nm，这对于ASML更是重大打击

大家都能看出来，这两家是以前制造照相机、录像机的世界知名企业

但技术落后于荷兰公司

光刻机无论哪国生产，主要技术都是美国掌握；他们根本不向中国出口先进的光刻机，这么多年我们使用芯片都是进口，前段时间芯片断供，我们还紧张了一阵子

实用主义，虽然弹出来那种感觉很山寨，但是好歹没什么问题，随便刻录了一张CD，效果很不错！

轻薄程度：比想象中薄，很轻便 外形外观：黑色一体，很漂亮 产品包装：包装很严实 稳定性能：刻录稳定，未失败过 读盘速度：读写速度很快，和介绍一样 发货速度很快，很满意的一次购物。满足预期

美媒认为，施赖纳马赫尔的这番言论标志着荷兰官员首次公开阐述他们在这个问题上的立场

同时，这番言论也突显了美国在说服盟友加入自己行动方面所面临的重大挑战

不可否认的是，在高端芯片制造领域中国还有很多不足，其中主要原因就是缺少制造高端芯片光刻机

美国也正是看到了这一点，在打压中国芯片行业发展方面，美国便将目光锁定在了光刻机上

早前，美国施压荷兰阿斯麦公司（ASML）禁止向中国出口用于14纳米工艺芯片制造的最先进的极紫外（EUV）光刻机，但相对比较落后的深紫外（DUV）光刻机，并不在禁售范围内

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不过据称，NXE:3600D型号的EUV光刻机，支持的工艺可能仅到3nm，如果要制造2nm的芯片，光刻精度还要提升，需要新一代的High-NA极紫外光刻机才行

而光刻精度怎么提升，就是数值孔径的提升了， 前几代光刻机，比如3400B/C、3600D的数值孔径都是0.33NA的，解析度（精度）为13nm，单次构图间距为32nm到30nm

外观非常轻薄小巧，颜色是经典的磨砂黑色，手感观感都还不错。产品外包装中规中矩，上开式的打开方式很特别，还有很人性化的防锁死按钮，整体设计很到位。读盘声音安静，读写速度目前还没有特别感觉，使用后再来追评。

2022年的前三个季度已经过去，阿斯麦盘了一盘账，发现营业额大幅度下滑，股价也暴跌

对于一家上市公司来说，股价跌等于挖它的肉

在股东面前，什么政客都不好使了

而且，正如前边说的，阿斯麦需要从全球各地进口生产光刻机的零件和原料，对谁都有一定的依赖，但是对谁的依赖也不强

当然，高科技的东西除了小名以外还有个响亮的大名，硅片的大名就是晶圆

现在，我们一手拿着芯片设计图，一手拿着晶圆，这就可以准备开始做芯片，轮到光刻机出场了

制作芯片，正是使用光刻机，把设计好的芯片图刻到硅片上边

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ASML当然不希望自己投入巨资研发的第一代EUV光刻机就此终结，而希望继续销售第一代EUV光刻机获取厚利，不过EUV光刻机的潜在大客户只有中国，由于美国的阻挠，至今ASML都未向中国交付EUV光刻机

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ASML的高管近日表示2025年推出的High-NA EUV光刻机可能将是光刻机的最后一代产品了，这已经达到了当前光刻机技术所能达到的最高水平，以这种光刻机技术或许能推进至1.8纳米，再先进的工艺就得另寻它法

近期光刻机巨头ASML频频向中国芯片释放善意，与此前的态度截然不同，让人摸不着头脑，直到近期它的高管发言或许能解释这一原因，中国市场已成为它最后的蛋糕了，能卖一台赚一台

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生产量子芯片的“光刻机”

荷兰为何不卖光刻机给中国

IBM生产量子芯片时，使用的也是类似的“无损探针台”，这次我们也研发出来了，也就意味着在量子芯片上，被光刻机卡脖子的历史，再也不会出现了