光刻机是什么时候发明的
曝光光源波长分为紫外、深紫外和极紫外区域,光源有泵灯,准分子激光器等
近日有国内企业公布了一项关于光线折射等的EUV光刻机专利,这对于国内光刻机产业一直努力的EUV光刻机技术无疑是重大的突破
目前EUV光刻机仅有ASML一家企业可以生产,而ASML深受美国的影响,在美国的影响下导致ASML无法自由出货EUV光刻机,这也成为中国芯片制造的最大障碍
买了三个光驱,反馈都很不错,声音小,噪声小,刻盘的速度很快,跟之前的光驱比的确不是一个档次,之前光驱识别光盘都很困难,这个很快就能识别出来,真的是大赞。京东速度还是一如既往地快,让人赞不绝口,以后还是继续支持京东?