滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

ASML的高管近日表示2025年推出的High-NA EUV光刻机可能将是光刻机的最后一代产品了，这已经达到了当前光刻机技术所能达到的最高水平，以这种光刻机技术或许能推进至1.8纳米，再先进的工艺就得另寻它法

近期光刻机巨头ASML频频向中国芯片释放善意，与此前的态度截然不同，让人摸不着头脑，直到近期它的高管发言或许能解释这一原因，中国市场已成为它最后的蛋糕了，能卖一台赚一台

一方面是光刻机的技术逐渐达到极限，继续升级已不太可能；另一方面是设备自身成本以及生产成本的激增，这就导致ASML自己都担忧这些先进光刻机未来还有多大需求，而快速发展的中国市场则可望成为台积电最后的希望

“刘翔”要卖ASML光刻机!一台至少5000万 仅剩两台上海生产光刻机的电子

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　　8月15日，美国商务部正式将金刚石、氧化镓两种半导体材料、用于GAAFET架构集成电路所必须的ECAD（EDA）软件、用于燃气涡轮发动机的压力增益燃烧技术加入到商业管制清单

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坚决不照搬美国对华政策:把光刻机给美国会更糟糕

拿到荷兰光刻机

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而基于0.55NA数值孔径的光刻机，光刻分辨率将允许芯片缩小1.7倍、同时密度增加2.9倍，其处理晶圆的能力是每小时处理220片12寸晶圆左右，真正用于制造3nm以下的芯片

至于买家，当然只有台积电、三星、英特尔三家才有资格购买，其它的晶圆厂，能够买到0.33NA的EUV光刻机，就已经非常不错了，不要想这种0.55NA的

ASML哀叹

当前的EUV光刻机技术是通过将镜头放在液体里，通过液体和镜头等的多重折射最终打印出更小的结构，从而制造更先进的工艺，然而这种方式随着向更先进的工艺推进，这种方式导致光刻机日益笨重，光刻机自身的成本也因此激增，第一代EUV光刻机的价格达到1.2亿美元，预计High-NA EUV光刻机售价将达到4亿美元

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它的验收成功，也标志着我国研制出的世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备，具有重大意义

因为，超分辨率光刻机与ASML光刻机采用了完全不同的技术路线

ASML最出名的当属EUV光刻机和DUV光刻机

EUV指的是极紫外光，它可以制造7nm以下的芯片，使用的是13.5nm波长的光源

我在之前的视频里讲过，华为的光源专利，其目的就是先对强光源进行去相干处理，以达到匀光效果，这样才能保证光刻工艺的正常进行

ASML光刻机的精度跟光源的波长、物镜的数值孔径是有关系的，波长越短越好，刻机分辨率就越高，制程工艺越先进

根据ASML计划，2022年该公司有望生产55台EUV光刻设备，到2023年达到每年超过60台，有望供应给英特尔、三星、台积电等企业

国产替代影响几何？2021年，全球半导体行业总销售额达5500亿美元

其中，作为全球最大、发展最快的芯片半导体销售市场，彭博数据显示，过去4个季度，每个季度增长最快的20家芯片产业公司中，平均有19家来自中国大陆

第二代光刻机

美国要求荷兰对华禁售ASML光刻机

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我的外置刻录机坏了，买这个来更换，感觉还可以吧。毕竟才几十块钱。一直最喜欢京东网自营商品里面的唱片，图书，每次活动都会购买一批，可以剩下很多钱，京东网自营商品让人放心，服务一流，让人满意，没有后顾之忧，正品保证！

中国在光刻机方面的技术迅速突破，在于此前具有一定的基础，事实上在1990年代的时候，我国的光刻机技术与海外差距没有如今那么大，只是后来由于海外光刻机企业的日渐强大，以及当时发展芯片产业时机未到，国产的光刻机产业链逐渐凋零，如今经过近十年时间的努力，国内光刻机产业链再度打通也就不在话下

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制造光刻机太难了

从目前的形势来看，我国弥补起这一领域的缺失还遥遥无期

我国目前的进展我国在这一领域的天赋和努力是受到世人肯定的，荷兰高科技学院的董事曾公开表示，如果不是美国卡脖子，中国在5纳米光刻机这一类别十年内就能赶上世界先进水平