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人类有史以来最复杂的机器

研发光刻机，是一个绝对意义上的跨国工程

全世界只有三家公司有可能造出来极紫外光刻机，包括日本的佳能和尼康，荷兰的ASML

美国不想把这么关键的技术给日本，最后ASML得到了制造极紫外光刻机的技术授权

当时的美国正在享受单极时刻，推崇全球化，对荷兰几乎不设防

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结果光这台激光器，通快公司就用了十年才生产出来

近日国内光刻机产业链的企业之一，传芯半导体公开宣布已经20余项EUV光刻机技术专利，加上此前在激光光源、工作台、镜头等方面所取得的成果，国产EUV光刻机已取得了重大进展，或许数年后国产EUV光刻机就将量产，这正让ASML后悔莫及

ASML另一重担忧则是中国光刻机技术的快速发展，可能成为它的竞争对手，中国制造此前的事实一再证明，只要中国取得突破的技术，那么量产的产品往往比海外竞争对手的便宜许多，在成本方面ASML根本就不是中国同行的竞争对手

在芯片设计上，28纳米工艺只需要4280万美元，7纳米则需要2.486亿美元，3纳米已经需要5.811亿美元，2纳米预计需要7.248亿美元，所以一颗3纳米芯片的设计成本，就是28纳米工艺的近14倍，超40亿人民币

而受到影响最大的，应该就是ASML，因为市场对EUV光刻机的依赖性将会降低，事实上，在芯粒和先进封装技术被应用后，这种对EUV光刻机的依赖性已经出现降低的现象，例如无论是英特尔的欧洲工厂还是台积电的美国工厂，都没有采购新的EUV光刻机，而是通过移机的形式，即采用老工厂的旧设备，台积电甚至还将3纳米工艺的产能缩减了约8成，7纳米工艺的一座新厂也被取消

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面对市场的变化，ASML和它所在的荷兰都已顶不住了，他们强调ASML是一家欧洲企业，不应完全遵从美国的要求，而应该按照全球自由贸易的条款向中国供货，如此也就不难理解ASML计划大举扩张光刻机产能瞄准的市场是中国市场了

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国产90nm的光刻机

如上图所示，这是4大厂商的光刻机精度

其中用于7nm及以下芯片制造的EUV光刻机，只有ASML能够生产

而尼康能搞定高端的7-28nm的AiF+浸润式光刻机，但佳能、上海微电子却还停留在90nm，只能生产低端的光刻机

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不过也有人称，光刻机所指的精度，并不是指能制造芯片的精度，光刻机可以通过多次曝光，提升分辨率的，那么问题就来了，上海微电子的90nm光刻机，最多能生产多少纳米的芯片？据资料显示，目前上海微电子的90nm的光刻机，主要用于电源管理芯片、LCD驱动芯片、WiFI芯片、射频芯片、各类数模混合电路等

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众所周知，目前ASML是全球最大的光刻机供应商，同时也是唯一的EUV光刻机的供应商

光刻机要用稀土

至于佳能，尼康，则主要集中在最低端的还有UV（i-line）光刻机领域，在次高端的DUV领域，都表现一般

至于国产光刻机，虽然可以用于90nm，但其实晶圆厂们用得非常少，并且主要不是用于前道，也就是晶圆制造这一块，更多是用于后道，比如封测等领域

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ArF占88%

而DUV光刻机又分为ArFi光刻机，用于45-7nm；而ArF Dry用于65nm，还有KrF用于180nm等等

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光刻机折叠:半导体公司赚的多

于是，下饺子一样的晶圆厂扩产浪潮之中，一台2014年售价不到10万美元一台的佳能FPA3000i4光刻机（几乎三十年前的型号，分辨率仅有350nm），被炒到了170万美元，一机难求

　　此后的二三十年，这种现实愈演愈烈，中国光刻机对外的差距，也越来越大

　　【2】蹉跎岁月　　1977年7月，邓小平邀请30位科技界代表在人民大会堂召开座谈会

　　在那场座谈会上，中国半导体灵魂人物王守武说得很直接：　　“全国共有600多家半导体生产工厂，一年生产的集成电路总量，只等于日本一家大型工厂月产量的十分之一

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事实上，现在ASML已经看到了其EUV光刻机在未来的销售会不乐观，先看台积电，首先是台积电已经取消了一座7纳米工厂，其现有7纳米生产线的利用率已经不到50%，也就是说，大量的EUV光刻机已经处于关机状态，其3纳米生产线至今闲置，而且还削减了大量产能，近日台积电更是表示没有计划在老美建设3纳米工厂的计划

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