相比目前的0.33数值孔径的EUV光刻机,High-NA EUV光刻机将数值孔径提升到0.55,可以进一步提升分辨率(根据瑞利公式,NA越大,分辨率越高),从0.33 NA EUV的13nm分辨率提升到0.55 NA EUV的低至8nm分辨率(通过多重曝光可支持2nm及以下制程工艺芯片的制造)
” 不久前,ASML公布了2022年第三季度财报,销售额和利润均超出市场预期,新的净预订额也创下了纪录
当时,温宁克也强调,“由于包括通货膨胀、消费者信心在内的一系列全球宏观经济问题,市场存在不确定性和衰退的风险