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ASML发出正式警告:限制向大陆出售光刻机将重创全球芯片产业链

后者的DUV光刻机则处于可以销售的状态，其原因一方面是国内的光刻机制造厂商同样能够制造出45nm的DUV光刻机并正在攻关更新进制程的DUV光刻机，禁售意义不大；另一方面则是国内作为全球重要的芯片制造基地之一，确保对国内芯片厂商的DUV光刻机供货实际上也是缓解全球芯片不足的重要举措

光刻机是芯片制造中必不可少的核心设备，简单来说可以分为用于7nm及更先进制程的EUV光刻机和用于10nm~130nm的DUV光刻机

ASML表示，他们计划将产能增加到 90 个 EUV 和 600 个 DUV 系统（2025-2026 年），同时还将 High-NA EUV 产能增加到 20 个系统（2027-2028 年）

与2021年42套EUV系统销量相比，相当于EUV光刻机产能直接增加210%+了，这应该是ASML拿出来的最大诚意了

像intel、台积电、三星等巨头，则是三大光刻技术，都在押注，以免万一某一种技术突然崛起，把自己搞得措手不及

这让ASML压力山大，那么怎么办呢？当然是想办法讨好客户，让客户的需求得到满足，这要客户就不会跑掉了

ASML靠着双工件台、浸润系统和 EUV技术，一步步成为光刻机行业的龙头老大， ASML很清楚，他们只是一个默默无闻的光刻机工厂，而光刻机美企业的老大，却已经没落了，所以，在这个领域，很少有人能一直赢下去

而不仅仅是技术，更是一个巨大的市场， ASML曾经在张忠谋的带领下，从台积电那里拿到了一笔大笔的订单，亲自教导台积电怎么经营芯片工厂；ASML公司为了拿到三星的订单，一直憋着一口气，觉得自己很没面子，没料到如今威风八面的 ASML，竟然也有这么一段丑陋的过去

ASML怂了

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美国要求欧洲企业不对中国出售先进科技，也要求美国企业不能对中国出售先进科技，但是美国却悄悄给自己的芯片企业开后门，高通获得了许可对中国某科技企业出售定制化的4G芯片，NVIDIA申请将高端芯片的最后供货期限延迟半年，近期美国芯片行业的NVIDIA、新思科技等为了从中国市场获得收入都开发了针对中国市场的定制化产品

国产光刻机相关的股票

此前清华大学机械工程系朱煜教授带队的清华大学研发团队就已研发出光刻机双工作台，由此中国成为全球第二个可以生产双工作台的国家；此外激光头、镜头等厂商也陆续生产出先进的组件，各个产业链企业的努力正逐渐完善国内的光刻机产业链

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已拿下20多项专利

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很好用，而且用了一段时间了还没坏，我们经常用，也经常会用坏，所以买这个很划算 稳定性能：好

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还行，挺不错的，之前公司的让我弄坏了，自己买了一个赔给公司。测试了所有功能，一切正常。还有京东快递小哥一如既往很快，态度也很好，好评！

俄、日纷纷加紧研制新一代光刻机

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“ASML供应给大陆一台光刻机!”这是美方的阴谋

另外，对于光刻机这种重要性很强的设备来说，一旦我们有了一定的技术突破，那么西方国家就会进行相应的技术解禁，让我们的研发成果收不回高昂的研发成本，从而在市场层面打压我们的技术发展，打消我们的研发积极性

这个说法并不是没有道理的，早在很多年前，就有相应的例子

用了多年先锋刻录机，相信它的质量，到手发现很小巧玲珑，方便携带，试刻了一张，很好，和win7兼容的很好，自动安装了驱动，系统直接就可以刻录，做工也不错！

我们国家在4年前，曾经研制出一种特别的光刻机，但是很少有人知道，它的名字叫超分辨率光刻机，这台光刻机可是哟经365nm波长实现22nm工艺制程，通过多重曝光等手段，还可以实现10nm以下的工艺制程

在此基础上，项目组还结合超分辨光刻装备项目开发的高深宽比刻蚀、多重图形等配套工艺，未来能够实现10纳米以下特征尺寸图形的加工

具体是将入射光照射在透镜表面的小探针上，然后探针表面的电子就会有序的震荡，从而激发产生波长非常短的等离子体，然后在光刻胶上刻出非常小的图形

有句话说，芯片是微观制造工艺的极限

那么将这个极限制造出来的光刻机，有多难非常明显了，而每一纳米的突破，都是极其难得，阿斯麦尔温彼得甚至还表示，中国不太可能独立造出顶尖光刻机

要说最难的就是这3个点了

1、光源我们知道，目前ASML最尖端的就是EUV光刻机了，而其使用的就是极紫外线，能够将光刻技术扩展到32nm以下

全球仅荷兰能造高端光刻机

asml光刻机出口中国

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