光刻机要一直被“卡脖子”?华为:我偏不...
国产 28 纳米光刻机,与已面世的5纳米顶尖制程,依然存在较大的差距,但部分常见的射频芯片、各种电器的驱动芯片等非核心逻辑芯片,仍可以采用 28~90 纳米工艺
我国自主光刻机虽与外国先进水平仍有不小差距,但未来依然可期
简单来说解决这个匀光问题,对成品质量有着决定性作用,光越均匀,成品也就越好,大大提高了良品率
对华为的好处是,能更好地控制住成本,这样一来,商用的概率也就越大了
事实上,除了国产光刻机技术在不断发展,国外光刻机的卡脖子状况,也出现了松动的迹象