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FPA-6300ES6a光刻机 / 佳能佳能与尼康一样，同样拥有影像和光刻机两大业务，但在光刻机上，佳能的主要产品是i线和KrF光刻机，其中主打高分辨率高产量的KrF扫描光刻机FPA-6300ES6a可以做到小于等于90nm的分辨率

所以哪怕是半导体市场有些许低迷，尼康也并没有任何订单因此被取消

值得一提的是，虽然尼康本身目前并没有生产EUV光刻机，却有为EUV系统生产光学组件的

不过与EUV光刻机本身一样，EUV的光学组件拥有极长的交期

中芯国际光刻机最新进展

读盘速度：快 读盘声音：小 稳定性能：相当好 轻薄程度：都是这个尺寸 外形外观：工艺精湛 产品包装：很好

第二次购买了，这次选择黑色区分一下，刻录出来的光盘很好没有问题。比传统光驱短，占用空间少，不错！非常喜欢

芯片光刻机工作原理动图

光驱收到了，非常好用，连续刻录了10张都成功了，先锋这个牌子还是值得信赖的。整体来说还是很不错的，店家服务态度很好，而且质量也很好，比前的华硕好用太多，开心

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观察者网消息，荷兰外贸与发展合作大臣施赖纳马赫尔再次表示，荷兰将就阿麦斯对华出售芯片设备一事做出自己的决定，出发点是捍卫自己利益，包括国家安全和经济利益

如果欧盟把此事跟欧盟捆绑，再跟美国谈判，最后的结果将会是把深紫外光刻机送给美国，荷兰的情况会更加糟糕

现在韩国出口半导体就很纠结，因为技术在美国手里，韩国不配合美国，就无法获得技术，韩国要配合美国，半导体出口量就会受到大幅影响

如果荷兰也跟美国进行所谓的“合作”，那么阿麦斯早晚也会变成一家美国企业，到时候荷兰就会受制于美国，将不得不让出国家利益

再有就是日本和中国在先进芯片技术方面的进展，日本芯片行业一直都在研发绕开EUV光刻机的芯片制造工艺，它此前取得成功的NIL工艺已被铠侠采用，如今NIL工艺已突破10nm；中国则在光量子芯片技术方面取得进展，中国已有企业筹建光子芯片和量子芯片生产线，一旦商用将让ASML的光刻机无用武之地

外包装没有温謦提示封条。读盘还快，刻录dvd光盘5分多就刻好了。包装完整，安装方便，装好以后读盘速度很快，很不错的一个光驱，值得购买

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文 | 华商韬略 付磊　　时代在发展，科技在进步，如果说科技是一个国家强盛的根基，那么半导体芯片的制造则代表着人类科技的发展水平，而光刻机则是芯片制造中必不可少的一部分

　　如今，我国能够生产的光刻机是第四代的ArFDE 90nm制程，然而世界上最先进的光刻机生产企业ASML已经可以做到生产EVU的7nm制程量产

　　其次，就算拥有了精密的零件制造业基础，在光学系统、组装技术等知识、技术等方面也是如今光刻机技术突破的一大难题，因为这一系列的技术知识关乎着一个光刻机能否正常运行以及生产和产出

过去的这许多年，有众多的企业都想替代ASML，比如尼康、佳能，甚至还有上海微电子，大家都在光刻机上发力，想推出EUV光刻机，甚至换一个方向，用另外的技术来实现EUV光刻机的功能，但暂时都没有成功

如上图所示，这是ASML光刻机产业链中的主要核心部分，分国上、中、下游三个部分

二是找到能够一批上、下游都能够替代的厂商，这就更加困难了，所以其它的光刻机企业，在EUV这个赛道上，是不太可能与ASML竞争的，除非换赛道，以另外一种技术试

目前佳能是押宝纳米压印光刻（NIL）技术，而美国有企业在在搞电子束光刻机(EBL)，还有企业在研究直接自组装（DSA）光刻，X-射线光刻等，都是绕开EUV技术

如今的深度学习在大规模模型的爆发下，所需算力每几个月就会翻一番，但现在能效比已经成了优先级更高的指标，要想同时满足性能和算力的话，主要方法有四种：一是换一种系统级计算架构，比如DSA架构；二是充分利用3D设计，也就是我们常说的3D封装和堆叠技术；三是从晶体管架构上创新，譬如纳米管、纳米片、CFET和原子沟道等；第四个则是目前看来最快捷的一条路线，通过光刻技术的发展直接提升密度

稳定性能：很好 读盘速度：很好 外形外观：很好 轻薄程度：很好 读盘声音：很好 产品包装：很好

更关键的是，ASML可不是没有自己的担忧，我们国产光刻机也在快速发展，之前ASML方面就已经表示，物理定律在荷兰与在中国是一样的，也就是说，ASML可以利用物理定律制造出先进光刻机，我们也能，只是时间问题，如果ASML不抓住这个时间窗口，一旦窗口关闭，那么再想进来可就难了，如果您觉得说得在理，感谢给个点赞和在看

这种改变，让芯片产业对EUV光刻机的需求下降，而ASML要保证自己的市场地位和盈利水平，就必须要保证DUV光刻机的出货量，所以我们就看到，就在前段时间，ASML方面不顾老美的要求，坚持向中企供货，并直言即便DUV光刻机使用了少量的老美技术，但是ASML依然可以继续向中企供货，言外之意，必要时，ASML可以选择用其他技术替代老美的技术

二是找到能够一批上、下游都能够替代的厂商，这就更加困难了，所以其它的光刻机企业，在EUV这个赛道上，是不太可能与ASML竞争的，除非换赛道，以另外一种技术试

目前佳能是押宝纳米压印光刻（NIL）技术，而美国有企业在在搞电子束光刻机(EBL)，还有企业在研究直接自组装（DSA）光刻，X-射线光刻等，都是绕开EUV技术

ASML主要处于中游，就是将上游的这些核心厂商、核心元件聚拢，然后自己再组装成一台光刻机

而下游则是台积电、三星、英特尔这三家，这三家为了支持ASML，曾入股ASML，成为ASML的股东，形成了利益共同利

售价4亿美元

面对这种现实，我觉得我国光刻机有必要更改一下技术路线，不一定要跟随ASML的步伐一头埋进浸润式光刻机技术路线当中

在这条路线上ASML有积累、有资金、有技术、有供应链、有市场优势，所以我们再怎么拼估计也拼不过他们，这时候还不如放手一搏，去攻破其他光刻机技术路线，就像当年ASML放手一搏一样

对英特尔、台积电以及三星这些头部芯片制造商来说，拥有最顶尖的光刻机，他们生产出来的芯片性能要领先其他厂家一大截，如此一来，其他厂家根本就没有竞争优势