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而在芯片的研发制造过程中，就需要用到一个非常重要的设备，这个核心装备就是“光刻机”，目前在国际上，光刻机的三大企业，分别是阿斯麦、尼康和佳能，特别是阿斯麦，中高端市场的占有率达到了60%以上，而在存高端的顶级市场中，占有率更是达到了100%，可以说完全没有对手

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具体是将入射光照射在透镜表面的小探针上，然后探针表面的电子就会有序的震荡，从而激发产生波长非常短的等离子体，然后在光刻胶上刻出非常小的图形

而ASML的光刻机，是将激光束经过一些列反射整形后，过滤掉衍射，然后投射经过光刻模板，再投射到硅片上

我在之前的视频里讲过，华为的光源专利，其目的就是先对强光源进行去相干处理，以达到匀光效果，这样才能保证光刻工艺的正常进行

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所以如果有人解读中国已经有每小时曝光10-20晶圆的EUV原型机，它大概率是把DUV当作了EUV

而第二代MET工具通常命名为MET-5，它经常出现在我的帖子里

美国加州劳伦斯伯克利实验室的MET-5极紫外曝光系统国内关于长春光机所的MET资料有限，我们不妨拿2005年的美国加州劳伦斯伯克利实验室的MET工具的性能做一个参照

ASML说到做到，竟然真的硬刚美国，向中国企业成功交付光刻机，俨然可以看作是双方即将撕破脸的信号

该项目投资达到了1.03亿元，将致力于突破车规级功率半导体芯片的国产化，目标年产能为36万片

虽然仅仅是一个普通的设备交接仪式，却令中国企业感到备受鼓舞，因为这是自2019年中国与ASML合作陷入僵局之后，又一个具备特殊意义的亿元以上合作项目

假如未来ASML真与美国撕破脸，并投身中国怀抱，那么将彻底解决中国无法生产高精尖芯片的难题，中国将制造出高精尖芯片以及5G技术，对高通和苹果在芯片领域的垄断地位提出挑战

ASML为何拒绝美方向华禁售要求?

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先锋的光驱还是不错的，外观设计简朴大方黑色非常耐看，大小正合适，使用了一下，使用正常没问题。另外，京东自营配送速度很快，包装完整无缺，昨天下单，今天中午就收到货了。

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光刻机荷兰拒绝

物流快得惊人，头一天下午下单第二天早上就到了，神速啊，送家里了，下班后试试产品会追评。

从技术层面，ASML公司生产的光刻机确实采用了美技术和零部件，但要知道，美半导体巨头英特尔也是ASML公司的大客户兼大股东，且ASML公司每年生产的有限的EUV光刻机，也是要供应给英特尔的，所以老美不会轻易对ASML公司“卡脖”，不然又会害人害己

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也正因为如此，荷兰才会力争光刻机出货

不仅是因为技术可控性的原因，也在于DUV光刻机是ASML维持中国大陆市场运营的重要保障

自己几分钟换好了，刻了几个文件试试，很快，也没什么噪音，很不错，但愿能多用一阵子，先好评

所以对于ASML来说，让DUV光刻机也去适配修改后的芯片规则，没有任何意义，只会是让ASML丢失大量的市场和营收

要知道，目前我们不仅是全球最大的芯片市场，也是全球最大的半导体设备市场，而ASML在老美的营收已经连续三年下滑

刻录机非常好，读写静音极佳，刻盘质量极佳，是我用过的最好刻录机，质量也非常过硬，下次一定在来买。

用起来方便，装好也完美，很契合原机。比较轻薄啊，很轻，读盘性能可以，等着试试刻录

很显然，这两次迭代，将使得摩尔定律被延长至2032年

在中文舆论里，前者便是铺天盖地的所谓“28nm”光刻机；后者便是所谓“7nm”光刻机

半导体产业40年的发展路径经严格考证的国产光刻机光源进度而在我2021年10月份的考证里，国产DUV光源的测试计划是248nm的KrF DUV激光器，因此实际上这一款激光器并没有进入批量生产的阶段

ASML的哀伤

随着中国这个ASML期待的最后市场的转肽，ASML正陷入窘境，这一切都与ASML跪舔美国有关

然而如今却是美国率先背叛ASML，然后日本再施加压力，台积电等无力大规模采购EUV光刻机，最终导致了ASML陷入如今的窘境，可以说ASML如今的结果完全是它咎由自取

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ASML依靠独有的EUV光刻机赚得盆满钵满，曾经芯片企业排队抢购EUV光刻机，然而如今全球市场却出现一股风潮，那就是绕开EUV光刻机，这让ASML后悔不迭