在此次的新闻发布会上,温宁克表示,2024年,ASML的High-NA EUV光刻系统将首次应用于晶圆厂,计划在2026年至2027年之间的某个时间点批量生产该设备,并将尽可能扩大其生产能力,预计到2027-2028年,High-NA EUV光刻系统的年产能将达到20个
11月15日消息,综合韩联社、koreatimes报道显示,全球光刻机龙头大厂ASML首席执行官温宁克(Peter Wennink)于今日在韩国首尔召开的一场新闻发布会上表示,ASML新一代的High-NA EUV光刻机将于2024年开始发货,每台设备的价格将在3亿至3.5亿欧元之间