在此次的新闻发布会上，温宁克表示，2024年，ASML的High-NA EUV光刻系统将首次应用于晶圆厂，计划在2026年至2027年之间的某个时间点批量生产该设备，并将尽可能扩大其生产能力，预计到2027-2028年，High-NA EUV光刻系统的年产能将达到20个
11月15日消息，综合韩联社、koreatimes报道显示，全球光刻机龙头大厂ASML首席执行官温宁克（Peter Wennink）于今日在韩国首尔召开的一场新闻发布会上表示，ASML新一代的High-NA EUV光刻机将于2024年开始发货，每台设备的价格将在3亿至3.5亿欧元之间
相比目前的0.33数值孔径的EUV光刻机，High-NA EUV光刻机将数值孔径提升到0.55，可以进一步提升分辨率（根据瑞利公式，NA越大，分辨率越高），从0.33 NA EUV的13nm分辨率提升到0.55 NA EUV的低至8nm分辨率（通过多重曝光可支持2nm及以下制程工艺芯片的制造）
产品包装：外观小清新，保护很到位 外形外观：很经典，很商务 稳定性能：非常稳定，无故障
根据计划，ASML韩国维修中心和工程师培训中心项目将于明日（2022年11月16日）举行开工仪式
为此，ASML CEO温宁克也亲自来到韩国，明日将与韩国政府官员及半导体行业人士共同参与开工仪式
在此之前，温宁克出席了ASML于今日在韩国首尔举行了一场新闻发布会，介绍了ASML在韩国的发展愿景
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” 不久前，ASML公布了2022年第三季度财报，销售额和利润均超出市场预期，新的净预订额也创下了纪录
当时，温宁克也强调，“由于包括通货膨胀、消费者信心在内的一系列全球宏观经济问题，市场存在不确定性和衰退的风险
虽然我们开始看到每个细分市场的需求动态不同，但对我们系统的整体需求仍然强劲
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