事实上,刻蚀机之前也是被美国禁运的,但随着中微公司的先进刻蚀机后,禁运也就没意义了,于是放开了市场,中国厂商可以随便买
而技术相对落后的则是光刻机了,目前上海微电子生产的光刻机,其标注的精度还在90nm
而ASML的光刻机,已经能够生产3nm的芯片了,这中间的差距还是相当大的
已成芯片制造的最大短板了
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可见,光刻机已经成为了当前我们制造芯片的最大短板了,所以国产光刻机真的要努力才行,不说实现5nm,先实现28nm,再搞定14nm,先实现与其它国产半导体设备一个节点才行,你觉得呢?而只要国产半导体设备有了突破,达到先进水平,禁运也就没有了任何意义,也就会全面放开了,刻蚀机就是最好的例子