美国联合欧洲,出动了国家三大实验室,联合美欧160多家科研单位耗费了十几年才攻克了EUV的理论难题
而ASML在制造的时候,可以获取到全球最顶级的零件,光源采用美国的Cymer,透镜是德国的蔡司,2010年,ASML向台积电交付首台EUV研发设备TWINSCAN NXE:3100系统
有许多朋友问我,国产5nm光刻机什么时候可以造出来,但是我要告诉大家,什么7nm光刻机、5nm光刻机,其实这样的说法是不准确的,在这个世界上,其实并不存在什么5nm光刻机
光刻机是什么什么是光刻机,利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光,光刻胶见光后会发生性质变化,从而使光罩上的图形复印到薄片上,从而使薄片具有电子线路图的作用