光刻机对准技术的专利概况分析
事实上,刻蚀机之前也是被美国禁运的,但随着中微公司的先进刻蚀机后,禁运也就没意义了,于是放开了市场,中国厂商可以随便买
而技术相对落后的则是光刻机了,目前上海微电子生产的光刻机,其标注的精度还在90nm
而ASML的光刻机,已经能够生产3nm的芯片了,这中间的差距还是相当大的
那么问题来了,当前国产半导体设备中,技术最先进的是哪一种,技术相对最落后的又是哪一种呢?上图这张图,其实说得非常明白了
刻蚀机应该是当前国产半导体设备中,唯一达到国际先进水平的,已经达到了5nm