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光刻机_雕刻机_曝光系统

光刻机的工艺系数,反转出现

尽管国内也有生产光刻机的厂商,但是在精度上显得有点技不如人

目前国内最先进的光刻机制程仅可达到90nm,这对于国产芯片产业链来说,还远远不够

要知道,中国市场可是全球最大的芯片消耗市场,对高端芯片和28nm等成熟芯片的需求都是巨大的

光刻机的工艺系数

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ASML硬刚老美!首台光刻机送往中国:再不给就没戏了欧洲垄断光刻机产业

继10月美芯片巨头企价格暴跌90%,集体无视“芯片禁令”,坚持向中国出口后

老美曾经的“小弟”荷兰ASML,也开始抵制其要求,“我们要捍卫自己的利益”

近日,上海“东方芯港”消息称,上海鼎泰匠芯科技举办ASML光刻机搬入仪式,中国迎来首台ASML光刻机

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坚决不照搬美国对华政策:把光刻机给美国会更糟糕,cpu光刻机是哪个国家的

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阿斯麦的标志日本和韩国就是先例,日本有技术,韩国也有技术,日本在半导体领域曾经甚至领先美国,占据了全球半导体领域的半壁江山

但是现在,日本在高端半导体领域的水平并不突出,核心技术都到了美国手里

韩国的情况也一样,出了一个三星,结果大股东都是美国资本,已经沦为了一家真正意义上的美国公司

这番话说得已经很委婉了,所谓不必要的技术,说直白一些,就是美国的监听监控技术,最终将会导致荷兰彻底丧失技术优势

到2nm时或走到尽头,电子束直写光刻机

也就是说如果要制造1.8nm以下的芯片,可能EUV光刻机就无法胜任了,要推出全新一代技术,至于是什么技术,目前业界还没有定论

目前美国有公司推出了EBL电子束光刻机,可以生产0.768nm的芯片,但无法大规模量产

而俄罗斯在研究X射线光刻机,没有光掩模板,直接光刻,据称可以用于1nm芯片,但没有样品出来

电子束直写光刻机

说起EUV光刻机,大家都非常熟悉了,这是生产7nm及以下芯片时,必须使用的光刻机

更重要的是全球仅有ASML一家厂商能够生产,可以说ASML卡住了全球芯片制造企业的喉咙,大家要生产7nm及以下的芯片,就必须找ASML

为了利益,荷兰口罩光刻机

荷兰口罩光刻机

如今的中国飞速发展,各行各业都离不开芯片,虽然部分芯片中国可以国产,但是在高尖端芯片还是稍显不足,需要依靠进口芯片或者高端光刻机

而作为全球为数不多能生产EUV光刻机的荷兰阿斯麦公司自然不会放过中国这么大的市场,所以与中国之间的合作也是越发紧密

而同样被美国施压的日本企业也是认识到,中国市场的份额很高,不愿意轻易舍弃

其实就客观来看,荷兰无论是政府还是企业都是无意与中国市场“脱钩”的,之前荷兰虽然也是出台了部分对华措施,但是更多的还是迫于美国的压力

中国企业公布EUV光刻机专利对ASML影响有限,国产光刻机实现技术突破

国内有科技企业公布了EUV光刻机专利,热闹了几天,然而仔细想来,这专利恐怕对于中国光刻机产业影响有限,离量产依然很远,就如此前的石墨烯专利一样

EUV光刻机可谓是科技行业的皇冠,它集中了全球诸多科技的精华,ASML的EUV光刻机需要大约10万个零部件,由德国、美国、日本等诸多国家的大约5000家企业供应相关的元件,可见它的高度复杂性

中国企业公布EUV光刻机专利对ASML影响有限

其实类似的现象在石墨烯技术上也有所体现,石墨烯技术被认为是最尖端的技术之一,由于它自身的特性,石墨烯技术用于电池上可以提升电池容量和充电速度,用于芯片上则可以大幅提升性能,因此全球都在积极研发石墨烯技术

光刻机最核心技术,不再向美限令妥协!首台ASML光刻机已搬入中企

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现如今,ASML不仅拒绝收紧DUV光刻机的出货范围,还计划将在中国台湾地区投资300亿新台币进行扩产

随着先进光刻机产能的提升和High-NA EUV光刻机的问世,ASML有望自由出货更先进的设备

▲ 鼎泰匠芯洁净室交付ASML光刻机搬入现场据了解,ASML做出这样的决定,主要出于以下几点原因:首先,国内市场是最大的芯片消费市场,目前很多国内厂商开始自研自产芯片,进口芯片出现了明显的下滑趋势

光刻机原理腐蚀机,ASML又要停供中国光刻机?人民日报:放弃幻想

至于老美是如何说服荷兰扩大禁售范围的,我们暂且不知

可以肯定的是,未来ASML很难向大陆市场出货DUV光刻机和EUV光刻机

那么问题来了,荷兰的妥协对国内半导体市场有什么影响?其实答案很简单,自研光刻机成了国内半导体产业链唯一的出路

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ASML又要停供中国光刻机?人民日报:放弃幻想

究竟能制造多少纳米的芯片?,国产光刻机生产

“光刻机”被称之为传统芯片制造的工业母机,因为它必不可少,同时光刻机的好坏,精度,决定了芯片的精度、良率等等

不过大家也清楚,光刻机目前全球只有4家厂商能够生产,分别是ASML、尼康、佳能、上海微电子,ASML是荷兰企业,尼康、佳能是日本企业,而上海微电子是中国企业

如上图所示,这是4大厂商的光刻机精度

其中用于7nm及以下芯片制造的EUV光刻机,只有ASML能够生产

而尼康能搞定高端的7-28nm的AiF+浸润式光刻机,但佳能、上海微电子却还停留在90nm,只能生产低端的光刻机

能生产光刻机的上市公司,真的没那么容易

真的没那么容易

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