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　　曾经编写过《光刻掩模版的制造》武汉无线电元件三厂，一度还卖起了副食品

徐端颐团队也退出了光刻机的研究，转向光盘技术领域，还拿到了国家发明二等奖

　　【3】从头再来　　2002年，荷兰南部的边境小镇费尔德霍芬，来了一批西装革履的中国人，他们身上背着一项沉重的使命——研发刚被列入“863重大科技攻关计划”的新型光刻机

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国内光刻机再获突破

日本芯片行业早已绕开EUV光刻机开发了NIL工艺，据悉日本的NIL工艺已先后打破10nm、5nm，NIL工艺的成本比EUV光刻机工艺降低六成，这对于ASML同样是重大打击，日本芯片设备行业曾经领先ASML，如今日本在先进工艺技术方面绕开EUV光刻机将重振芯片设备产业，日本或许为了重振芯片设备产业而对海外销售更将成为压倒ASML的最后一根稻草

图为光刻机最近几年以来，中国因美国下达的禁令在许多领域都遭遇了阻碍，其中最为明显的就是芯片领域，美国不光要求国外芯片代工企业停止为中国服务，同时还向AMSL施压，向中国实施光刻机禁运，就连中国此前已经订购的DUV光刻机，也被美国强行扣下，由于缺少AMSL的光刻机，中国国产芯片的生产举步维艰，欧美如此百般阻扰中国，那么光刻机到底能用来干啥？制造难度究竟有多大？AMSL，指一家荷兰半导体企业，是目前全球最大的半导体设备制造商之一，全球精度以及效率最高的高端光刻机均出自该企业之手

知乎华为没有光刻机怎么研发芯片

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阿斯麦公司（ASML）目前在全球先进芯片的制造设备方面的建树很大，该公司一家就占了全球光刻机市场六成的份额，并且该公司也是全球一家能够供应7纳米以下芯片所需EUV光刻机的公司

而这样大的公司与我国的合作程度也很深，目前我国是阿斯麦的全球第三大市场，占该企业每年营业额的14.7%，大约是27亿欧元左右，因此中国市场对于阿斯麦来说也非常重要

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好多年不用光驱了，孩子开学了，发了很多书都带光盘教学，赶紧买了这个光驱，大牌子的先锋，专业的光驱制造商，值得信赖，读盘效果杠杠的，超级赞??

按照机构的数据，2022年28nm及以下的芯片占全球所有芯片的比例还高达75%+，所以我们现在的重点不是先进工艺，而是全产业的国产化率，同时提升产能，先满足国内成熟工艺的需求，先解决了这些问题，再向先进工艺前进，这样才走得稳健

一直信赖先锋品牌，做影视传媒的必须用到光驱，非常好用，即插即用，读盘飞快，声音也很轻，速度快，使用稳定，刻dvd和bd都非常好用，没有飞盘，脱离。推荐朋友也用这个品牌，性价比超高，而且几乎也没有声音，稳定用几年不出故障，京东物流速度也非常快，十几年前就用先锋光驱，这也是一中情怀，下次光驱依然还是先锋，就这价钱和这服务，完美！

中国光刻机困局之2022(二):六镜头极紫外光学系统的起源步进光刻机鉴定机构

美国加州劳伦斯伯克利实验室CXRO主任值得一提的是，2005年发表这篇论文的帕特里克·诺洛（Patrick Naulleau）当年是纽约州立大学的副教授，他现在是加州劳伦斯伯克利实验室CXRO的主管，CXRO实验室正在为下一代NA0.55 光刻机开发关键配套材料

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日前媒体报道指国产先进光刻机的产业链正逐渐完善，纯国产光刻机即将出现，难怪ASML之前加紧向中国出售光刻机了，它非常担忧中国光刻机将成为它的强劲对手

正是由于国产产业链在光刻机方面的进展，让中国正成为全球最具潜力的光刻机生产国，这方面是ASML所在的荷兰和尼康所在的日本都无法达到的，产业链已成为中国光刻机的核心竞争优势

重点是日本的企业一直有着一个优良传统，那就是垂直整合模式，技术自主、可控，不容易受到长臂管辖的约束，ASML再不行动，未来的市场竞争只能更加激烈

最后，中国芯片产业的“换道超车”

虽然EUV光刻机无法进入大陆市场，但打造高性能芯片的方式并非这一种，而中企近些年为实现这一目的也在另辟蹊径，比如华为的芯片堆叠技术，通富微电的芯粒技术，先进封装工艺也是提升芯片性能的有效方式

在我国大力推进芯片国产化的背景下，中企能如愿收到ASML的DUV光刻机，无疑来得很及时！ASML硬刚老美有什么目的？小编认为，ASML之所以义无反顾的对中企供货，其实ASML的日子并不好过，简直是腹背受敌！首先，全球半导体下行，不少晶圆厂因订单不足开始削减成本，对光刻机的需求也逐步放缓，而我国芯片自给率又要在2025年提升到70%，根据ASML公布的财报显示，大陆市场已经成为ASML的第三大重要市场，试问又有谁愿意放弃自己的“金主”呢

从目前的形势来看，我国弥补起这一领域的缺失还遥遥无期

我国目前的进展我国在这一领域的天赋和努力是受到世人肯定的，荷兰高科技学院的董事曾公开表示，如果不是美国卡脖子，中国在5纳米光刻机这一类别十年内就能赶上世界先进水平

光刻机的技术难点先进光刻机制造的第一个难点就是机器的光源问题，在EUV光刻机问世以前，DUV光刻机是世界的主流，二者最大不同在与将DUV上193纳米的短波紫外线改为了13.5纳米的极紫外线，光刻机精度取得了跨越式发展

   这一现实情况促使我国迟迟落后于不断进步升级的光刻机工业，被荷兰日本超过许多，又始终找不到破解的法门

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