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我们国家在4年前，曾经研制出一种特别的光刻机，但是很少有人知道，它的名字叫超分辨率光刻机，这台光刻机可是哟经365nm波长实现22nm工艺制程，通过多重曝光等手段，还可以实现10nm以下的工艺制程

在此基础上，项目组还结合超分辨光刻装备项目开发的高深宽比刻蚀、多重图形等配套工艺，未来能够实现10纳米以下特征尺寸图形的加工

例如，该光刻机已制备出一系列纳米功能器件，包括大口径薄膜镜、超导纳米线单光子探测器、切伦科夫辐射器件、生化传感芯片、超表面成像器件等，验证了该装备纳米功能器件加工能力，已达到实用化水平

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　　在半导体中，光刻机属于核心设备，它不仅是耗时最多、成本最高的一步，同时还拿捏着芯片制造工艺水平的命脉，目前最先进的 7nm、5nm及接下来的3nm、2nm都需要EUV光刻机，即使一台售价高达10亿人民币，依然是供不应求

　　ASML是目前全球最大的光刻系统制造商，占据着市场绝对的主导地位，他们的产能决定着全球工艺扩张的速度，更是让诸如三星、台积电等代工龙头为争夺其先进技术打得不可开交

光刻机断供中国

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　　一台光刻机所集结的是美国的光源设备、德国的蔡司镜头、日本的光学技术和台积电与三星提供的制程技术，光说一个蔡司镜头就是需要几十年甚至上百年的技术沉淀和不断测试才能做到的，我国光刻机紧追慢赶从90nm到29nm就用了18年

光刻机禁令再扩大!美国施压荷兰ASML

比如，当N为100时，量子计算机运行一次就可以完成运算，耗时远远低于一秒，但如果是经典计算机，则需要运算2100次

6月2日，英国顶级期刊《自然》（Nature）杂志发表了一份研究成果：美国国家标准与技术研究院与加拿大量子技术公司Xanadu合作，开发了一种可以执行多算法、可编程、可扩展的光量子计算芯片

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但离量产还有一定距离，一方面世界各国对于石墨烯的研究，还没有到达让碳基晶圆批量生产，满足各大企业需求的地步；另一方面就算晶圆能够批量生产，与碳基芯片配套的生产设备，世界上还没有一家企业能够生产

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受到获胜一方美国的为代表的全力制裁后，被打醒的俄罗斯将全力以赴开始投入到光刻机的研发中，这也是俄罗斯在冷战结束后走向半导体工业自主化的重要一步，那么俄罗斯的这一次尝试能否成功呢？一、宣布研制7nm光刻机随着集成电路的发展，光刻机这种必要的生产设备显得越来越重要了，特别是生产微型芯片时，光刻机在搭建微型电路上的功能至今还是无可替代的

相比于俄罗斯从受到制裁才开始布局研制光刻机，中国则是未雨绸缪，很早就开始决定自主研制光刻机了，同时中国在这方面起步其实并不晚，在上世纪七十年代还仅仅跟随着国际发展的脚步，拿得出来并不落后的光刻机

报道称，台积电拥有业界最多的 80 台 EUV 设备，而且正在安装新一代设备，是吃电大户，预计 2025 年将占中国台湾省整体能源消耗的 12.5%，较 2020 年的 6% 高一倍还多

除了台积电外，美光在中国台湾也使用至少一种 EUV 设备

IT之家 8 月 26 日消息，据彭博社报道，ASML 新一代 EUV 光刻机每台耗电约 1 百万瓦，约为前几代设备的 10 倍，依赖该设备生产芯片的三星、台积电等芯片制造大厂能源消耗巨大，芯片行业可能成为减少全球碳排放的重要绊脚石

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读盘速度：读盘很快，速度很美，相当不错 读盘声音：很安静，振动也很小，不错！ 稳定性能：长时间使用，经常用，能稳定运行两年多，前一个也是这一款！ 轻薄程度：台式机用，厚度固定了，这个无所谓了！ 外形外观：外形就那样，台式机光驱没有啥特别的外形！ 产品包装：包装很好，外面是个纸箱，里面是商品的包装，有减震

比如，7纳米逻辑芯片晶圆厂的光刻机投资中：1，干式DUV光刻机的投资比例是10%,；2，浸没式DUV光刻机的投资比例大约是50,；3，数值孔径NA0.33的第一代EUV光刻机的比例是40%

先锋的刻录机非常好，老品牌了，以前就经常使用，质量好，价格实惠，非常满意，快递非常快！

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ASML又要停供中国光刻机?人民日报:放弃幻想

至于老美是如何说服荷兰扩大禁售范围的，我们暂且不知

可以肯定的是，未来ASML很难向大陆市场出货DUV光刻机和EUV光刻机

那么问题来了，荷兰的妥协对国内半导体市场有什么影响？其实答案很简单，自研光刻机成了国内半导体产业链唯一的出路

正如人民日报说的那样：关键核心技术是要不来、买不来、讨不来，若不自立自强，必有“卡脖子”之虞

国内企业应该放弃幻想，聚四海之气，借八方之力，自立自强不是关起门来搞科研

综上所述，我国目前的国产光刻机整机交付的制造精度只有90纳米，对比高端光刻机还差得很远

不过，这已经达到了常用的光刻水平，对于一些低端芯片的生产已经够用了

中国能够整机交付的90纳米光刻机当然，困难只是一时的，我们会不断地努力下去，试图早早解决光刻机零部件难以自己生产的问题

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