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前段时间，上海鼎泰匠心收到了一台来自ASML出货的光刻机，并举行了交接

其实对于我国半导体行业的发展而言，这是一个利好的消息

要知道光刻机对于国产芯片发展的非常重要

由于美方政策的限制，几年前中芯国际曾经向ASML公司采购了一台EUV光刻机，ASML公司迟迟没有交付

发货很快，配送师傅态度很好，先打了电话，还专门送上楼了呢，和黑色的一起买的，感觉先锋的刻录机很好用

京东自营就是快 再说说先锋的光驱 几十年的世界品牌 我个人用了十几年了 无噪音 读盘快 解码各种光驱的格式都是ok的 值得信赖很购买

读盘速度：读盘速度很快，加持USB3.0。 读盘声音：运行比较安静，比其他声音小点。光盘质量也有影响。 稳定性能：稳定性强，底部防滑。 轻薄程度：轻薄小巧。能放电脑包。 强制开机按钮很惊艳，强制开盖也不用到处找针了。手轻轻一拨就开了，方便极了。

很好用，稳定实用，磨砂外壳也不易沾染指纹。很不错！性价比高！买一个装着说不定用得着。虽然现在用光盘概率很小。。。

读盘速度：读盘快速读盘声音：安静稳定性能：非常稳定外形外观：外观不错，即插即用，方便，静音，做工精良。很实用

因此，美方修改规则限制出货，这对ASML光刻机出货的影响也相对是有限的

更何况，国内厂商在先进光刻机方面取得了诸多突破，目前已经拿下了国内八成光刻机市场，以及全球四成的封装光刻机市场

由此可以看出，ASML不放弃中国市场是对的

越来越多的芯片在国内生产制造，自然就需要用到更多的光刻机等设备

另外，新能源汽车无疑是未来趋势之一，而中国又是最大的新能源汽车消费国，同时也是最大的出口国，新能源汽车生产制造需要大量的芯片

相比手机而言，汽车是更大的产业链，毕竟会有更多的汽车芯片在国内完成生产制造，这对光刻机的需求自然也会进一步增加

之前自己买了一个，用着特别好，单位也买了一个，存储容量大，数据备份。速度很快还很稳定。不错得选择，比我之前用的那个快多了，

而0.7nm，差不多相当于2个硅原子的宽度，也是理论上硅基芯片的最高精度，所以很多人认为，当芯片精度达到了1.8nm以后，可能EUV光刻机也不行了，要使用Zyvex公司研发出的这种光刻技术了

Zyvex公司的光刻技术，是啥技术？其光刻系统命名为为ZyvexLitho1，是基于STM扫描隧道显微镜，使用的是EBL电子束光刻方式，与极紫外线没有任何关系，称之为电子束光刻机，可能更合适一点

读盘速度：十分快 读盘声音：小 稳定性能：十分不错 轻薄程度：刚刚好 外形外观：美观 产品包装：很好

国内光刻机概念股

光刻机，是人类有史以来最复杂的机器

它比大飞机、火箭、宇宙飞船、包括詹姆斯·韦布太空望远镜都要复杂，都要高难度

因为那些东西的制造技术至少在原则上可以由一个国家掌握，但是没有任何一个国家能掌握最尖端光刻机的全套制造技术

读盘速度：很快 读盘声音：很小，几乎听不到声音 稳定性能：性能稳定 轻薄程度：与台式机配套合适 外形外观：精緻 产品包装：严实无破损。

很久没有用过光驱了，现在小孩的学习资料很多是光盘，所以买一个用用，老牌光驱品牌，不错，很好用，如果能配套方便使用的刻录软件就更好了

中国为什么有那么多“弯道超车”故事?再论EUV光刻机的战略价值

在先进晶圆厂，28纳米以下的逻辑芯片制程，其所需要的EUV曝光数量随节点的迭代而逐渐增加，所以节点越先进，EUV光刻机所需数量越多

超级好的光速啊，十年前买的一个一直都在用，用不坏的先锋，还会再买这个牌子的。。。。

很好的刻录光驱，可以8倍速刻录光盘，先锋的光驱产品一直是行业领先的存在，上大学的时候就用的先锋的刻录光驱，现在已经毕业多年，这次公司要买个可以刻录的光驱，第一反应选择了先锋的光驱，很不错，京东的小哥送货上门，好好的服务。

“刘翔”要卖ASML光刻机!一台至少5000万 仅剩两台中兴购买光刻机

商品质量不错，物流也很快，好评。满意，静音，速度快，稳定。非常满意

读盘速度：刚开使用，读盘写盘都还是很不错的，希望一直质量不错，耐用一些就很棒了

asml光刻机每台1亿美元

如今上海微电子已经成功研发出第一台国产28纳米DUV光刻机，首台交付时间就在明年

一旦我国光刻机被研制出来，那么ASML的市场就会被严重挤压

第三就是DUV光刻机对美国技术依赖较低

因为技术依赖程度比较低，所以ASML想卖DUV光刻机给中国，美方根本阻止不了

就在美方新规刚出不久，ASML加大了光刻机的产能，并且计划在2026年之前，将EUV光刻机的年产能提升至90台，DUV光刻机提升至600台

　　曾经编写过《光刻掩模版的制造》武汉无线电元件三厂，一度还卖起了副食品

徐端颐团队也退出了光刻机的研究，转向光盘技术领域，还拿到了国家发明二等奖

　　【3】从头再来　　2002年，荷兰南部的边境小镇费尔德霍芬，来了一批西装革履的中国人，他们身上背着一项沉重的使命——研发刚被列入“863重大科技攻关计划”的新型光刻机

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国内光刻机再获突破

日本芯片行业早已绕开EUV光刻机开发了NIL工艺，据悉日本的NIL工艺已先后打破10nm、5nm，NIL工艺的成本比EUV光刻机工艺降低六成，这对于ASML同样是重大打击，日本芯片设备行业曾经领先ASML，如今日本在先进工艺技术方面绕开EUV光刻机将重振芯片设备产业，日本或许为了重振芯片设备产业而对海外销售更将成为压倒ASML的最后一根稻草