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ASML对于荷兰，其实类似于三星之于韩国

ASML的光刻机销售将持续遭受打击，对荷兰的产业支柱将造成一定的影响，继而可能对荷兰的GDP与经济造成波及，形成连锁反应

ASML其实因此陷入了台积电的困局，它被迫封锁了一个最大的客户与最大的潜力市场，未来的利润可高度依赖于美国少数的大厂

文/王新喜在向中国出口DUV光刻机的问题上，荷兰ASML曾经左右摇摆，但如今风向转的太快，荷兰最终也没有顶住美国的压力，荷兰最终还是选择了断供DUV光刻机

12月8日，凤凰财经就有消息称，受到美国压力，荷兰最大芯片商限制对华出口

是正品，速度快，刻盘稳定，稳定才是王道，不会坏盘，很满意。买给客户的，对方很满意，刻录速度比较快，声音小，很实用

读盘速度：很快，比以前家里的快多了。 读盘声音：声音小，也很正常。听到一直在读盘的声音感觉心里很踏实。先锋真的好牌子。 稳定性能：稳定好用，没有出现过问题。 轻薄程度：轻薄好拿。快递给我的时候掉到地上了，也没有摔坏。还很正常的用。 外形外观：外观好看。真的不错

因为实践表示，3次曝光会导致良率大幅度下降，4、5次良率可能会低到没法想象，晶圆厂们的成本高到没法承受，不如买一台更高级光刻机，成本还低一些

所以，目前国内在努力的研发28nm的光刻机，这样经过两次曝光后，可以搞定14nm，至于7nm工艺，那最好还是期待EUV光刻机，用28nm的来曝光三次，良率没法看

点单位光盘。以前就用的先锋的。品质非常好，用了好多年了，所以这厮继续购买。商品应该不错。待会儿去试用，用好了再来评价。希望这个产品也好，哪，有一些优惠活动。这样。可以在购买很多。另外价格教师再降点就好。

而今年的第三季度，佳能的光刻系统营收相较去年同比增长了22.9%，达到645亿日元，主要来自50台半导体光刻机、15台FPD光刻机的销量

佳能预计将在今年卖出180台半导体光刻机，52台FPD光刻机

在财报中，佳能指出，2022年的半导体设备市场中，虽然存储市场有所下滑，但功率设备和逻辑设备的需求依然在强劲增长

在东京买原装正品未拆封，好东西非常方便就开始使用了，外观也漂亮，轻薄设计、金属外壳黑色烤漆，看着就喜欢。 读盘速度：正常 读盘声音：轻 稳定性能：刚刚才用，感觉蛮稳定的 轻薄程度：轻薄设计，感觉舒服 外形外观：有金属感，漂亮 产品包装：完整、原装正品未拆封

读盘速度：快 读盘声音：不大 稳定性能：稳定 轻薄程度：标准 外形外观：好 产品包装：很好

然而，美国谋划终成空，哪怕美方数月来不断致电，荷兰仍拒绝响应半导体禁令，坚持要对华出口光刻机

施赖纳马赫尔据来自观察者网的消息，近日，荷兰外贸与发展合作大臣施赖纳马赫尔表示，在向中国出售半导体设备一事上，荷兰将以捍卫本国利益为前提，作出自己的决定

同时，荷兰的半导体生产链中，有90%的关键原材料来自于中国，若是中方采取对等制裁，禁止向荷兰输送半导体原材料，无疑会对荷兰的半导体生产链造成重大打击

荷兰拒绝响应半导体禁令

现在这年代还在用光驱的不多了吧，连机箱也没几个说特意有留位置的，要么就是复古机箱，非常难看……至于光驱还是信赖老牌子，用先锋我是很放心的！

据知情人士透露，目前荷兰政府认为，如果响应美国的芯片法案，可能会损害荷兰与中国的贸易关系

荷兰ASML光刻机公司可以看出，荷兰高管最近不断强调本国拒绝随美遏华，显然是被美方逼得有些烦了

从特朗普执政时期，美国就想要在半导体行业对华实施技术封锁，并因此找上了荷兰和日本

第二次购买了，这次选择黑色区分一下，刻录出来的光盘很好没有问题。比传统光驱短，占用空间少，不错！非常喜欢

在台积电和三星都在抓紧研发2nm的同时，蓝色巨人首次放出一颗核弹

也许许多人忘了，IBM也曾是一家大牌的芯片制造商

就在2021年5月，这家公司首次对外公布全球第一个2nm芯片，仅有指甲盖大小

那么英特尔呢？2021年下半年，英特尔不甘落后，也宣布了自己的全新路线图，并为芯片制程重新命名：Intel 7，Intel 4，Intel 3，Intel 20A

我们现在的国内半导体行业，急需要一台主流水平的光刻机去助力我们的芯片制造

那么佳能的光刻机，会不会受到美国的限制？这个问题的答案还是个未知数，不过能确定的是，美国对于佳能产品的限制，要比对asml公司的限制更小

在光刻机的生产中，asml采用的是全球产业链分工的模式，尤其是光刻机的核心零部件光源，主要就是来自于美国的企业居多，因此会受到美方的限制管辖，而日本企业更多采用垂直一体化的生产模式，相对来说受限较小

在高精度光刻机的市场份额上面，asml公司遥遥领先于尼康和佳能

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中国准分子激光DUV光刻光源测试原始记录关于国产DUV光刻光源的考证原文：解读中国28nm光刻机（一）:深紫外DUV光刻机光源的曙光结语在上述关于光刻机代差分析里，我们剥离出未来十年的2代代差和过去十年的3代代差，而这正对应于我国的光刻机研发工作的针对目标：1，在过去十年的既有技术上的突破，显而易见，自2019年开始国际形势突变之后，我们不再具有轻易获得西方的成熟技术、并依托其上进行迭代式发展的模式

读盘速度：很快哦 读盘声音：很小哦，静音呢 轻薄程度：一般哦 外形外观：很靓哦，总体满意

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这种非曝光成像模式允许自动识别硅晶格，因此可以自动识别像素在表面上的位置

这种 Lattice Lock 过程自动保持尖端定位（以及因此光刻）准确

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