那么这个光刻机到底为什么这么难造呢?光刻机是用来制造芯片的核心装备,而芯片的重要性那就不言而喻了,而没有光刻机,我们就没有办法制造芯片,所以涉及到芯片,那么光刻机就是无法躲开的存在
目前我国的国产光刻机,只能生产90纳米的芯片,就算我们能设计更为精细的芯片,可是没有光刻机一样造不出,目前我们要做的是突破28纳米的光刻机技术
很好。安装好后一点就亮!先锋的就是好用!不挑碟的机子!一直信赖着。还以为它不会出新产品了呢!?赞!
然而在EUV光刻机面世之前,一直都是使用的DUV光刻机,使用的是短波紫外线,突破到极紫外线,一共花费了20年的时间才完成,可见对于光源的选择使用,其的难度是非常大的,没有捷径可走