滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

此前，施赖纳马赫尔曾强调，荷兰不会完全照搬美国的对华政策，会做出自己的权衡判断

施赖纳马赫尔指出荷兰对华出口政策上的考量，她重点着墨于荷兰自身的需求：希望保持技术领先，避免形成战略依赖，避免使用一些不必要的技术

这是作为外贸大臣的责任——必须要对保持贸易开放负责

荷兰很清醒

阿斯麦的标志日本和韩国就是先例，日本有技术，韩国也有技术，日本在半导体领域曾经甚至领先美国，占据了全球半导体领域的半壁江山

但是现在，日本在高端半导体领域的水平并不突出，核心技术都到了美国手里

日本研发5nm取得重大进展

日本开发的NIL工艺是全球第一项无需光刻机的芯片制造工艺，此前已被铠侠用于存储芯片生产，此前日本方面就预计NIL工艺将可以演进至5nm，到去年底日本已将该工艺突破10nm，到如今不到1年时间又突破到5nm，可谓进展神速

除了设备过于昂贵之外，EUV光刻机的耗电量也是剧增，据悉台积电的耗电量占中国台湾省衡耗电量比例达到8%，如果引入第二代EUV光刻机，预计耗电量将进一步上涨，不知中国台湾能否撑得住，昂贵的电费让台积电已逐渐难以承受，这都导致采用光刻机的芯片制造工艺成本昂贵

同时，美国在围堵中国方面所采取的措施也在遭受其盟友的质疑

对此，欧盟外交与安全政策高级代表博雷利在欧洲议会一场辩论中坚称，欧盟不会效仿美国对中国采取的强硬政策

欧盟与荷兰此番表态进一步说明，它们不愿意全盘听从华盛顿的要求，参与对中国半导体技术的围堵

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俄罗斯能生产光刻机图

我们认为，在今年的一季度，我们认为，这不仅仅是偶然，而是 ASML在技术层面上，在市场层面， ASML也感受到了巨大的压力

中芯集团最近公布了一份新的产能，共计340000块12寸的芯片，而 DUV的光刻设备，就是最好的选择

老美对于EUV光刻机近乎歇斯底里的管控，引起了ASML公司的极度不满，该公司CEO彼得・维尼克曾多次向老美发出警告：如果不卖给中国EUV光刻机，用不了几年，中国人就会找到有效地解决方案，拉下EUV光刻机时代的帷幕

“国内并不缺乏优秀的芯片设计企业，芯片设计能力全球领先，只不过是国内没有能够制造高端芯片的企业罢了

”老美对华为芯片环节进行制裁后，华为创始人任正非接受央视记者采访时说出了“中国芯”的现状

虽然在过去的几年里，ASML公司明确表示不会“脱离”中国市场，将会加强与中企的合作，帮助中企提升芯片制造能力，但由于该公司制造的EUV光刻机使用了大量来自美国的半导体技术和元器件，即便是收了中芯国际等国内芯片制造企业EUV光刻机的全额货款，也不能向这些企业发货

值得一提的是，我国封测巨头通富微电掌握了世界领先的5nm“芯粒”技术，英伟达等多家美企为了降低“芯片禁令”的影响，直接与5nm通富微电签署了长达几年的合同

第三，华为等国内多家科技巨头发布了量子芯片技术，国内首条光子芯片生产线明年即将实现规模量产，加速了“下一代芯片”的商用

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EBL电子束光刻机，大家可能熟悉了，前段时间美国公司Zyvex，就搞出了一台电子束光刻机(EBL)，并制造了768皮米（0.768nm），不过这种光刻方式速度慢，不可能用于在规模芯片制造

而纳米压印光刻技术，目前被佳能押注，目前佳能已经能够提供NIL光刻机，比如东芝，就一直想用NIL光刻机来生产NAND闪存，同时在NIL光刻专利中，佳能遥遥领先

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荷兰外贸与发展合作大臣施赖纳马赫尔多次表示，荷兰不愿顺从华盛顿切断中国半导体技术供应的企图，荷兰将抵制美国的不道德做法，要捍卫自己的利益——我们的国家安全，以及我们的经济利益

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国内能生产光刻机的企业是哪家

长期以来，美国借用了各种手段以实现其阻碍中国半导体的发展

虽然嘴上声称会“尊重各国的选择权”，实际上却是强迫其他国家与其一起对华

见多了美国说一套做一套的行径，大多半导体企业都选择了留在中国

作为全球最大的ARM架构MCU厂商，意法半导体十分重视中国市场

显而易见，中国是他们“不想离开”的市场

2025年量产

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在微观结构上，N2采用纳米片电晶体（Nanosheet），取代FinFET（鳍式场效应晶体管），外界普遍认为，纳米片电晶体就是台积电版的GAAFET

根据这些数据，权威硬件新闻网站Tom's Hardware的报道者表示，总体来看，N2的全世代制程较之前有明显的性能和耗电改观