【文/观察者网 吕栋】“中国不太可能独立复制(replicate)出顶尖的光刻技术,因为阿斯麦依赖于不懈的创新,以及整合只有从非中国供应商处才能获得的零部件
但我的意思并不是绝对不可能,因为中国的物理定律和我们这里是一样的
7纳米光刻机交付了吗
目前,台积电等生产7nm-5nm制程的芯片采用的都是0.33 NA EUV光刻机,而第一代0.55 NA光刻机TWINSCAN EXE:5000还在研发过程中,预计2023年上市
早在2018年,英特尔就率先向阿斯麦下单第一代0.55 NA EUV光刻机,该公司也有望成为首个0.55 NA EUV光刻机的使用者,并将其用于3nm及以下制程