先是美国芯片企业美光已研发绕开EUV光刻机的1β工艺,这项工艺比采用EUV光刻机降低了六成的成本,存储密度、功耗等指标也更优秀
更让ASML忧心的是全球芯片行业的变化,全球芯片行业已从过去两年的火热迅速陷入冰点,最大的EUV光刻机采购客户台积电已关闭部分EUV光刻机,甚至还将部分EUV光刻机从中国台湾转运至美国的5nm工厂
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在全球芯片行业陷入停滞的时候,仅剩下中国市场可能仍然会大规模扩张芯片产能的市场,中国希望到2025年实现七成芯片自给率,而目前才达到三成左右,意味着中国至少还得再将芯片产能提升一倍以上,这说明中国市场将需要继续大规模采购光刻机