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中国能否破局而出?,激光和光刻机

目前最先进的光刻机分为两种:EUV(极紫外光)和DUV光刻机(深紫外光),极紫外光刻机的波长是13.5nm,而合理制程为3-7nm,光刻机最重要的是投影就是通过光将电路图案通过镜片放大投影到硅片上(跟平常上课用的投影仪一样),但是极紫外光很难获取到,要通过特殊的手段,首先是光源,极紫外光在电磁波光谱中属于短波,在光刻机中使用193nm的光源变成13.5nm的光源,一直困扰科学家多年,直到一位科学家提出通过击打锡滴来获取更短的波长,但是由于光刻机的光源通过各种反光镜的传输,实际收到的光源强度只有2%,所以有科学家提出击打两次来提高光强

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众所周知,中国研究光刻机几十年,研究进展缓慢,那么光刻机是什么东西,为什么这么难呢?光刻机在国际上属于尖端科技,国际上在光电领域荷兰知名企业ASML(阿斯麦)一直处于垄断地位,一台光刻机的售价高达八亿,而且还是供不应求,由于美国限制对中国出售高科技产品,中国购买一台光刻机,竟然几年时间还没交货

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