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集成电路装备光刻机,中国能否破局而出?

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目前最先进的光刻机分为两种:EUV(极紫外光)和DUV光刻机(深紫外光),极紫外光刻机的波长是13.5nm,而合理制程为3-7nm,光刻机最重要的是投影就是通过光将电路图案通过镜片放大投影到硅片上(跟平常上课用的投影仪一样),但是极紫外光很难获取到,要通过特殊的手段,首先是光源,极紫外光在电磁波光谱中属于短波,在光刻机中使用193nm的光源变成13.5nm的光源,一直困扰科学家多年,直到一位科学家提出通过击打锡滴来获取更短的波长,但是由于光刻机的光源通过各种反光镜的传输,实际收到的光源强度只有2%,所以有科学家提出击打两次来提高光强

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出于这三个原因,ASML一直以来都禁止向中国提供真正的支持

所以说,从目前的这个情况来看,国产光刻机技术落后ASML至少是10年以上,对中国来说,想要独立制造光刻机,可以说是万里长征才开始第一步

中国造得出原子弹,难道会造不出光刻机吗?不过,咱们也不是那么多年都任由别人“卡脖子”,而自己没有动作的,我们在“光刻机”上也有自己的一部分研究成果

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点单位光盘。以前就用的先锋的。品质非常好,用了好多年了,所以这厮继续购买。商品应该不错。待会儿去试用,用好了再来评价。希望这个产品也好,哪,有一些优惠活动。这样。可以在购买很多。另外价格教师再降点就好。

在早些年的时候,人们就已经意识到了光刻机作为未来科技领域发展的重头戏,很多资本家已经把视线放在光刻机上了,他们不惜耗费大量的资金,主要目的也是为了在光刻机领域里面能够分一杯羹

所以在那个时候很多的老牌资本主义国家,像美国,英国,德国,法国等一系列的国家,在光刻机领域里面都下了大资本研究,并有所成就

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众所周知,中国研究光刻机几十年,研究进展缓慢,那么光刻机是什么东西,为什么这么难呢?光刻机在国际上属于尖端科技,国际上在光电领域荷兰知名企业ASML(阿斯麦)一直处于垄断地位,一台光刻机的售价高达八亿,而且还是供不应求,由于美国限制对中国出售高科技产品,中国购买一台光刻机,竟然几年时间还没交货

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除了这些以外,还有光刻机的机房环境也至关重要,由于灰尘颗粒会吸收光,首先机房必须是无尘,工作时必须穿无尘服,第二机房的光照环境是暖光灯减少对极紫外光的刺激,第三光刻机属于精密型仪器,不能受到外界干扰,所以机房下方必须架空以减少振动对设备产生的损坏

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中国的光刻机技术成果目前中国自主研研制的90nm光刻机已经商用,并且已经成功攻克DUV浸润式光刻机的主要技术;上海微电子研制的28nmDUV光刻机,就可以用来进行14nm芯片的生产

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核弹作为世界上最强、最难研究的武器没有之一,持有的国家仅仅有8个,然而却有一个民用装备,世界上只有两个国家能造,比原子弹还稀有,它就是光刻机

乍一听,很多人闻所未闻,然而,我们在日常生活中却与它密不可分

从手机到电脑,从奢侈品到办公必备日常用品,甚至是航母、坦克,都离不开一个心脏——“芯片”,而光刻机,就是制造芯片必不可缺的核心设备

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