滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

另据韩媒 Business Korea 报道，三星电子正计划通过在未来三年内打造 2 纳米 GAA(Gate-all-around)工艺来追赶台积电

随着 0.55 NA EUV 光刻机量产提上日程，芯片厂商的“2nm 工艺战”也将彻底打响

其中，有 9 台 EUV 光刻机在今年一季度售出，与去年四季度售出 12 台 EUV 光刻机相比，环比减少 25%

数据显示，ASML 去年共售出 42 台 EUV 光刻机

根据 ASML 今年稍早前发布的 2021 年第四季度和全年财报，ASML 去年的 EUV 光刻机销售额为 63 亿欧元（约合 447 亿元人民币）

NSR-S635E光刻机 / 尼康虽然这样的机器在分辨率上与ASML的EUV光刻机还存在着不小的差距，但已经足以覆盖不少成熟工艺的晶圆制造，以及部分次先进节点的辅助制造了

而在去年的SPIE先进光刻机技术会议上，尼康展示了名为双光束EUV光刻技术

FPA-6300ES6a光刻机 / 佳能佳能与尼康一样，同样拥有影像和光刻机两大业务，但在光刻机上，佳能的主要产品是i线和KrF光刻机，其中主打高分辨率高产量的KrF扫描光刻机FPA-6300ES6a可以做到小于等于90nm的分辨率

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从尼康最新季度的财报来看，由于工厂建设的投入被推迟，FPD光刻系统市场有所下滑，所以销量有所降低，上季度只卖出了6台FPD光刻机，6台i线光刻机、1台KrF光刻机和1台ArF浸没式光刻机

由于ArF光刻机仍有着较为强劲的需求，所以尼康仍然看好这一市场的未来趋势，目前核心客户因为人员短缺或能源供应等问题，只是在交付上有所推迟

为什么要冲刺高 NA EUV 光刻机？光刻系统所能达到的分辨率是光刻收缩的主要驱动因素之一，它主要由所用光的波长和光学系统的数值孔径决定

更短的波长可以打印出更小的特征；更大的数值孔径可以更紧密地聚焦光线，也能够带来更好的分辨率

而从工艺技术和制造成本综合因素考量，EUV 光刻机（极紫外光刻）被普遍认为是 7nm 及以下工艺节点的最佳选择

目前，在全球范围内仅有荷兰的 ASML 公司能供应 EUV 光刻机

据介绍，ASML 的 EUV 光刻技术使用 13.5 nm 的波长（几乎是 X 射线范围），在微芯片上形成精细的线条

为什么要冲刺高 NA EUV 光刻机？光刻系统所能达到的分辨率是光刻收缩的主要驱动因素之一，它主要由所用光的波长和光学系统的数值孔径决定

更短的波长可以打印出更小的特征；更大的数值孔径可以更紧密地聚焦光线，也能够带来更好的分辨率

其中，有 9 台 EUV 光刻机在今年一季度售出，与去年四季度售出 12 台 EUV 光刻机相比，环比减少 25%

数据显示，ASML 去年共售出 42 台 EUV 光刻机

根据 ASML 今年稍早前发布的 2021 年第四季度和全年财报，ASML 去年的 EUV 光刻机销售额为 63 亿欧元（约合 447 亿元人民币）

三星方面，据韩媒 Business Korea 报道，李在镕 6 月 14 日造访 ASML 荷兰总部时，拜会了 ASML 首席执行官 Peter Wennink 等高管，广泛讨论半导体技术的未来、市场前景及 EUV 设备的供应，并取得“额外”的 EUV 光刻机设备

asml光刻机出口中国

前一个先锋刻录机用了12年装系统读盘报错了。又买个先锋。非常好用。先锋蓝光刻录机己收到，快递物流快，送货上门，很方便

在测试中，进行到第三次曝光时，晶圆的良率已经降低到了一个相当低的值，甚至有时候会低于20%了

如果进行第四次曝光，估计良率会低到离谱，至于第五次、第六次，根本不用想了，良率会接近于0%

目前像ASML的DUV光刻机，一般最多也只进行两次曝光，很少进行多次曝光，因为会大幅度的降低良率，造成成本上升，这是得不偿失的

读盘速度：读取速度很快， 外形外观：外观很漂亮。 读盘声音：几乎无声音。 产品包装：包装很完美。 稳定性能：性能很稳定。 轻薄程度：完全正常。

而台积电、三星这两大晶圆巨头，则是NIL、EUV、DSA三大光刻技术，都是做了准备，不过EUV光刻的专利相对多一点，再是NIL,最后是DSA

蔡司作为EUV光刻机的重要供应链，主要还是发务EUV，专利上占到了353件，而NIL也有38件，DSA则为0

国产光刻机 厂商

众所周知，在当前的芯片制造环节中，光刻是其中一个必不可少的重要环节

而光刻就需要用到光刻机，而7nm及以下芯片的光刻时，就需要用到EUV光刻机

EUV光刻机非常复杂，全球只有ASML一家企业能够生产

国产光刻机 厂商

德国蔡司的EUV光学系统实际上在ADT之前，美国开展了为期3年的工程验证机（ETS）研究，其采用的是四镜头曝光光学

所以更宽范围来说，过去30年的EUV光刻光学研究一共出现了5代形态

而高NA0.55EUV光学系统是从十年前便开始布局工业化，因此，我们从蔡司的产品迭代来看，我们与蔡司的技术代差实际上是放大了的

王丽萍教授2007年论文设计的2镜头MET曝光光学系统在这篇论文结尾，王丽萍写道：“根据我国现阶段的技术基础和研究目标，两镜微缩投影系统的研究仍为重点”

与此同时，佳能计划在宇都宫扩建一座新的光刻机工厂，用于加倍产能，进一步扩大在半导体光刻机市场的份额

至于面板市场，由于全球通胀和经济下行等原因，PC、电视和智能手机的销量下滑，全球市场相较去年会有所下滑

但佳能认为，从中长期角度来看，被用于各种产品中的OLED面板势必会带来显著的增长

噪音不大，刻录速度也很快，做工很精细，非常好，买一个放在手边刻盘很方便，美中不足没有赠送保护包，携带有些不方便。

在光存储这个领域中，日本的先锋品牌的确独树一帜，稳定高效，特别是在刻录行业中质量真的是杠杠的，前置面板大黑，尽显优雅高贵，LOGO是白色的，装在机箱中大气豪华，这个品牌的刻录光驱可以放心的使用好多年，值得信赖。读盘速度：速度很快，质量挺好。读盘声音：声音小没噪音稳定性能：很稳定。轻薄程度：适中吧外形外观：外观都一样产品包装：包装结实!