由数据显示,在2022年的第一季度中,中国企业第一次在世界晶圆代工市场中突破10%的占有率,市场占有率达10.2%
同时,根据公布的相关数据,中国集成电路出口在2021年达到3107亿块,与同时期相比增长了19.6%
读盘速度:很好 读盘声音:无声 稳定性能:俱佳 产品包装:完好 外形外观:无损 轻薄程度:满意
先不论中国在全球半导体产业链中至关重要的地位,单就对于荷兰光刻机巨头ASML而言,该公司都不可能理会美国的施压,因为中国市场对于该公司而言十分重要
由数据显示,在2022年的第一季度中,中国企业第一次在世界晶圆代工市场中突破10%的占有率,市场占有率达10.2%
同时,根据公布的相关数据,中国集成电路出口在2021年达到3107亿块,与同时期相比增长了19.6%
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先不论中国在全球半导体产业链中至关重要的地位,单就对于荷兰光刻机巨头ASML而言,该公司都不可能理会美国的施压,因为中国市场对于该公司而言十分重要
由此可见,如果没有了光刻机,那么芯片就会成为“无源之水”,所以光刻机的重要性自然是不言而喻了
如今既然各行各业都离不开芯片,那么制造芯片用的光刻机当然也就成了“香饽饽”
而在制造光刻机领域,其头部企业就是荷兰的阿斯麦,荷兰也是全球为数不多能生产EUV光刻机的国家之一
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吸取了前车之鉴后,除了强攻整机制造,还扶持了一批配套产业链企业
比如,中科院微电子所与科益虹源合作研究光源系统、清华大学与华卓精科的开发双工作台系统、浙江大学与启尔机电共同研制浸没系统等
持续的攻关下,光刻机产业开始取得突破
小孩子幼儿园有很多光盘发下来,笔记本又没配备光驱。网上一搜,外置光驱就选中了这款。从价格上看并不便宜。主要谁买大牌,图省心,毕竟还是需要用长时间的。完美解决问题,连上笔记本就能用。希望能一直用下去。
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面对美国芯片的做法,ASML当然不会坐视,ASML和它所在的荷兰都表示ASML是一家欧洲企业,理应有自由出货的权力,不应完全遵从美国的要求,近期更传出荷兰已在与美国谈判,希望让ASML获得自由出货的权利,毕竟ASML已是荷兰有限的几家具有国际竞争力的企业,对荷兰经济具有重要影响
先是美国芯片企业美光已研发绕开EUV光刻机的1β工艺,这项工艺比采用EUV光刻机降低了六成的成本,存储密度、功耗等指标也更优秀
更让ASML忧心的是全球芯片行业的变化,全球芯片行业已从过去两年的火热迅速陷入冰点,最大的EUV光刻机采购客户台积电已关闭部分EUV光刻机,甚至还将部分EUV光刻机从中国台湾转运至美国的5nm工厂
而ASML公司更是在光刻机设备领域一枝独秀,几乎通吃全球市场
根据ASML2021年公布的财报,在2021年,A阿斯麦2021年净销售额为186亿欧元,同比增长35%;净利润59亿欧元,同比增长63.9%
在186亿欧元的2021年度总净销售额中,有63亿欧元销售额为42台EUV光刻机系统贡献
毕竟我们连28纳米的光刻机都还不能稳定交付,更不用说14纳米制程的光刻机
当然对我国的半导体生产设备商来说,困难就是机遇,没有国外先进设备抢占市场,我国的半导体设备企业有更多的时间和空间进行喘息,有利于国产设备的追赶
而更重要的是,芯片的前道工序非常重要,并且是几百种设备相互配合,而这些生产设备以国外的产品为主,所以国外的光刻机能够相互配合兼容,这是大家多年来合作的结果
而国产光刻机的也许能用,精度也达到了,但晶圆厂们一般情况下可不会冒险,在有国外的、能兼容匹配的国外设备可买的情况下,就不会买国产的,一旦出了问题,就损失惨重
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除此之外,世界知名半导体品牌如三星、英特尔等都在中国市场有产能布局
因此,就如同ASML公司的CEO所言,“需要深刻认识到,中国在全球半导体行业中举足轻重,尤其是在主流半导体领域及成熟制程当中”
截至今日,荷兰官方都尚未同意美国禁止向华出售光刻设备的要求
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而超分辨率光刻机在原理上突破分辨力衍射的极限,与ASML的技术路线完全不同,不依赖光源波长及镜头数值孔径的传统路线格局
当然,研制出这款超分辨率光刻机,并不意味着我们已经实现了弯道超车,否则也不至于出现华为无法获得高端芯片的情况
我的外置刻录机坏了,买这个来更换,感觉还可以吧。毕竟才几十块钱。一直最喜欢京东网自营商品里面的唱片,图书,每次活动都会购买一批,可以剩下很多钱,京东网自营商品让人放心,服务一流,让人满意,没有后顾之忧,正品保证!
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二是找到能够一批上、下游都能够替代的厂商,这就更加困难了,所以其它的光刻机企业,在EUV这个赛道上,是不太可能与ASML竞争的,除非换赛道,以另外一种技术试
目前佳能是押宝纳米压印光刻(NIL)技术,而美国有企业在在搞电子束光刻机(EBL),还有企业在研究直接自组装(DSA)光刻,X-射线光刻等,都是绕开EUV技术
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也就是说如果要制造1.8nm以下的芯片,可能EUV光刻机就无法胜任了,要推出全新一代技术,至于是什么技术,目前业界还没有定论
目前美国有公司推出了EBL电子束光刻机,可以生产0.768nm的芯片,但无法大规模量产
而俄罗斯在研究X射线光刻机,没有光掩模板,直接光刻,据称可以用于1nm芯片,但没有样品出来
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