而当传统工艺逼近物理极限,我国在光子芯片、超导量子芯片等前沿科技领域也取得了重大突破,尤其是2023年就将落地的光子芯片,不仅运算速度能达到传统芯片的1000倍,功耗也仅为此前的万分之一,重要的是对芯片工艺没有要求,国产90nm光刻机即可满足完全满足生产线的需求
正是有了强将的加盟,镁光带来了自主研发的1β工艺,Zyvex Labs公司通过电子束光刻技术带来了号称“全球分辨率最高的亚纳米分辨率光刻系统” ZyvexLitho1,成功绕开了ASML的光刻机
此外,佳能等日企也想夺回曾经属于自己的市场,比如佳能宣布了自己的NIL光刻机,不仅能生产5nm芯片,同时研发、运行成本还更低