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ASML依靠独有的EUV光刻机赚得盆满钵满，曾经芯片企业排队抢购EUV光刻机，然而如今全球市场却出现一股风潮，那就是绕开EUV光刻机，这让ASML后悔不迭

首先是ASML跪舔的美国抛弃了它

美国芯片企业美光表示绕开EUV光刻机研发的10nm级别的1β工艺提升了存储密度30%，而功耗降低了20%，更重要的是成本大幅下降，这主要是因为EUV光刻机比美光现在采用的EUV光刻机贵了2-3倍

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当地时间7月20日，阿斯麦披露了2022年二季度财报，营收为54.3亿欧元（约合人民币375.46亿元），增长约35.75%；净利润为14.1亿欧元（约合人民币97.55亿元），同比增长约35.58%；毛利率为49.1%

市场调研机构TrendForce集邦咨询发布的数据显示，2022年一季度，中芯国际（5.6%）、华虹集团（3.2%）、晶合集成（1.4%）三家中国大陆企业，合计在全球晶圆代工市场占据10.2%的市场份额，这是大陆企业首次在晶圆代工领域突破10%的市场占有率

办公需要刻录光盘做数据保存，这款读盘能力很强，速度很快，震动不大，有轻微的声音，日常使用基本上不会察觉到；刻录写入时比18x的要快不少，过程很稳定，不会出现数据错误或者写完读不出的情况，购买时还赠送sata数据线，很方便。

HDL实现了比传统EBL更高的分辨率和精度

数据显示，光刻胶中的沉积能量不会下降到光束中心的10%，直到径向距离约为4nm

前几天卖了2部先锋刻录机很好用，刻录光盘快，很好。先锋大牌声音很轻，感觉稳稳的，现在很少有上翻盖的光驱了，不错

全球仅荷兰能造高端光刻机

那么这个光刻机到底为什么这么难造呢？光刻机是用来制造芯片的核心装备，而芯片的重要性那就不言而喻了，而没有光刻机，我们就没有办法制造芯片，所以涉及到芯片，那么光刻机就是无法躲开的存在

目前我国的国产光刻机，只能生产90纳米的芯片，就算我们能设计更为精细的芯片，可是没有光刻机一样造不出，目前我们要做的是突破28纳米的光刻机技术

【文/观察者网 吕栋】 当地时间7月20日，荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）在披露财报时发出警告称，如果美国迫使该公司停止向中国大陆销售其主流光刻设备，全球半导体供应链将面临中断

” 温彼得透露，政客们时不时就要提出限制向中国大陆销售深紫外光刻机（DUV）的计划，但世界“不能忽视”中国大陆半导体产能对全球电子产业的重要性

典型的如高通，相当高比重的电源管理芯片来自于中国大陆的晶圆产线

非常好用的一个东西。用来看DVD碟片。小孩六一儿童节的表演节目。马上拍马上到。100块钱就到手，读碟速度超快。超值的呢。

稳定性能：不错 读盘速度：很快 外形外观：还好 轻薄程度：适中 产品包装：精美 读盘声音：很轻

如果DUV对华禁售，导致中国大陆不得不放缓次一级先进工艺产线的建设，受损最大的将是AMAT、LAM、KLA等美国公司

除此之外，王笑龙还提到，半导体供应链的紊乱已经持续三年，至今并未理顺

中国大陆是全球半导体供应链体系中不可割裂的一部分，大量美国芯片巨头也依靠甚至依赖中国的晶圆厂供应

如果开发得当，APM 允许灵活制造各种产品，从设计材料到超级计算机再到先进的医疗设备

在创办 Zyvex Corporation 之前，Jim 作为软件企业家的背景使他意识到 APM（创建“数字物质”）可以比任何现有技术更有效、更准确和更具成本效益地制造产品

近日美国一家旨在开发和商业化原子精密制造 (APM) 技术的公司Zyvex Labs 宣布推出了全球分辨率最高的亚纳米分辨率光刻系统“ZyvexLitho1”，其并没有采用EUV光刻技术，而是基于STM扫描隧道显微镜，使用的是电子束光刻（EBL）方式，可以制造出具有0.768nm线宽（相当于2个硅原子的宽度）的芯片，精度远超EUV光刻机

现在这年代还在用光驱的不多了吧，连机箱也没几个说特意有留位置的，要么就是复古机箱，非常难看……至于光驱还是信赖老牌子，用先锋我是很放心的！

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而ASML采用的则是一种激光干涉仪，精度非常高，有着位移测量的能力，可以实现出纳米级的同步运动，非常精密，这样的技术就是美国也没有办法做到

可见光刻机的建造难度极大，而其的建造，也代表着现如今最完整的高尖端工业体系，代表的是一个国家真正的科技力量，和真正的工业实力，因此是不容小觑的

然而在EUV光刻机面世之前，一直都是使用的DUV光刻机，使用的是短波紫外线，突破到极紫外线，一共花费了20年的时间才完成，可见对于光源的选择使用，其的难度是非常大的，没有捷径可走

国内光刻机成功

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再次是财大气粗的台积电也一反常态不在抢购EUV光刻机，台积电当下的先进工艺制程产能过剩，而客户由于全球芯片行业衰退而转向选择成熟工艺，为了增强竞争优势，台积电建立“3D Fabric”联盟，以3D封装技术提高成熟工艺的性能降低成本